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高通量条件下熔石英强光元件缺陷抑制理论与工艺研究

摘要第9-10页
ABSTRACT第10-11页
第一章 绪论第12-22页
    1.1 课题来源及研究意义第12-15页
        1.1.1 课题来源第12页
        1.1.2 课题研究意义第12-15页
    1.2 强激光对熔石英元件损伤研究现状第15-20页
        1.2.1 激光损伤前驱体研究现状第15-18页
        1.2.2 后处理工艺研究现状第18-20页
    1.3 论文主要研究内容第20-22页
第二章 缺陷诱导损伤检测评价第22-29页
    2.1 缺陷检测评价第22-26页
        2.1.1 扫描电子显微镜和原子力显微镜第22-23页
        2.1.2 光热检测技术第23-25页
        2.1.3 激光损伤阈值测试第25-26页
    2.2 损伤性能—阈值的关联规律第26-27页
    2.3 本章小结第27-29页
第三章 离子束加工过程中损伤前驱体抑制理论与演变规律第29-39页
    3.1 离子束加工过程中缺陷演变规律研究第29-34页
        3.1.1 微纳尺度缺陷形貌演变现象第29-32页
        3.1.2 微纳尺度缺陷演变机理分析第32-34页
    3.2 离子束加工过程中划痕演变规律第34-36页
        3.2.1 划痕缺陷形貌演变现象第34-35页
        3.2.2 划痕缺陷演变机理分析第35-36页
    3.3 离子束加工过程中阈值性能演变第36-38页
    3.4 本章小结第38-39页
第四章 损伤前驱体联合抑制的后处理工艺研究第39-49页
    4.1 联合工艺加工实验第39-41页
    4.2 不同组合方式的损伤性能测试第41-45页
        4.2.1 激光损伤阈值测试第41页
        4.2.2 光热弱吸收检测第41-43页
        4.2.3 表面粗糙度检测第43-45页
    4.3 不同联合工艺损伤抑制能力比较与讨论第45-48页
    4.4 本章小结第48-49页
第五章 总结与展望第49-51页
    5.1 全文总结第49-50页
    5.2 研究展望第50-51页
致谢第51-53页
参考文献第53-57页
作者在学期间取得的学术成果第57页

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