磁屏蔽体分缝特性与修补技术的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第13-19页 |
| 1.1 背景与意义 | 第13-14页 |
| 1.2 国内外发展现状 | 第14-17页 |
| 1.2.1 电磁屏蔽材料的发展现状 | 第14-16页 |
| 1.2.2 电磁屏蔽特性的研究现状 | 第16-17页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 电磁屏蔽的基本原理 | 第19-26页 |
| 2.1 电磁屏蔽的定义和分类 | 第19-24页 |
| 2.1.1 电场屏蔽原理 | 第19-21页 |
| 2.1.2 磁场屏蔽原理 | 第21-22页 |
| 2.1.3 电磁屏蔽原理 | 第22-24页 |
| 2.1.4 超导屏蔽原理 | 第24页 |
| 2.2 电磁屏蔽效能 | 第24-25页 |
| 2.3 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 Maxwell有限元法和电磁场仿真基础 | 第26-31页 |
| 3.1 有限元法简介 | 第26页 |
| 3.2 有限元法的数学基础 | 第26页 |
| 3.3 有限元法的应用步骤 | 第26-27页 |
| 3.4 Ansoft电磁场仿真 | 第27-30页 |
| 3.4.1 电磁场求解的边界条件 | 第27-30页 |
| 3.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第4章 圆柱形屏蔽体分缝对屏蔽效能的影响的研究 | 第31-46页 |
| 4.1 引言 | 第31-32页 |
| 4.2 仿真参数的设置 | 第32-33页 |
| 4.3 单条分缝对屏蔽效能的影响 | 第33-35页 |
| 4.4 两条分缝对屏蔽效能的影响 | 第35-45页 |
| 4.4.1 上底面分缝 | 第35-38页 |
| 4.4.2 上下底面分缝 | 第38-41页 |
| 4.4.3 侧面分缝 | 第41-43页 |
| 4.4.4 横切分缝 | 第43-45页 |
| 4.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第5章 圆柱形屏蔽体分缝修补技术的研究 | 第46-63页 |
| 5.1 引言 | 第46-47页 |
| 5.2 仿真参数的设置 | 第47页 |
| 5.3 单条分缝的修补对屏蔽效能的影响 | 第47-49页 |
| 5.4 两条分缝的修补对屏蔽效能的影响 | 第49-61页 |
| 5.4.1 上底面分缝 | 第49-52页 |
| 5.4.2 上下底面分缝 | 第52-56页 |
| 5.4.3 侧面分缝 | 第56-59页 |
| 5.4.4 横切分缝 | 第59-61页 |
| 5.5 实验研究 | 第61-62页 |
| 5.6 本章小结 | 第62-63页 |
| 结论与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第72页 |
