| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第18-32页 |
| 1.1 引言 | 第18-20页 |
| 1.2 硅烷流化床法制备多晶硅工艺 | 第20-22页 |
| 1.2.1 工艺介绍 | 第20-21页 |
| 1.2.2 技术难点 | 第21-22页 |
| 1.3 硅烷流化床法制备多晶硅的研究现状 | 第22-24页 |
| 1.3.1 实验研究 | 第22-23页 |
| 1.3.2 模拟研究 | 第23-24页 |
| 1.4 气固流化床模拟研究 | 第24-29页 |
| 1.4.1 气固流化床概述 | 第24-26页 |
| 1.4.2 气固流化床中的多尺度特征与介尺度模型 | 第26-27页 |
| 1.4.3 CFD模型 | 第27-29页 |
| 1.5 本文研究内容 | 第29-32页 |
| 第二章 基于介尺度结构的DDPM模型的参数研究 | 第32-46页 |
| 2.1 引言 | 第32-33页 |
| 2.2 数学模型 | 第33-35页 |
| 2.3 实验简介与模拟设置 | 第35-38页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第38-45页 |
| 2.4.1 网格大小的影响 | 第38-39页 |
| 2.4.2 parcel大小对颗粒浓度分布的影响 | 第39-41页 |
| 2.4.3 parcel大小对计算速度的影响 | 第41-43页 |
| 2.4.4 parcel大小对气泡的影响 | 第43-45页 |
| 2.5 本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 DDPM模型与TFM模型对于气固流化床的流动对比研究 | 第46-58页 |
| 3.1 引言 | 第46-47页 |
| 3.2 数学模型 | 第47-48页 |
| 3.3 实验简介 | 第48-49页 |
| 3.4 模拟设置与网格 | 第49-50页 |
| 3.5 结果与讨论 | 第50-57页 |
| 3.5.1 不同气速下床层流化高度对比 | 第50-52页 |
| 3.5.2 颗粒浓度轴向分布 | 第52-54页 |
| 3.5.3 颗粒浓度径向分布 | 第54-56页 |
| 3.5.4 颗粒速度分布 | 第56-57页 |
| 3.6 本章小结 | 第57-58页 |
| 第四章 基于介尺度结构的硅烷流化床制备多晶硅的反应模拟 | 第58-70页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 实验研究 | 第58-59页 |
| 4.3 模拟计算 | 第59-63页 |
| 4.3.1 模型描述 | 第59-61页 |
| 4.3.2 模拟设置 | 第61-63页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第63-67页 |
| 4.4.1 网格无关性分析 | 第63页 |
| 4.4.2 硅烷入口浓度的影响 | 第63-64页 |
| 4.4.3 反应温度的影响 | 第64-66页 |
| 4.4.4 物料浓度分布对比 | 第66-67页 |
| 4.5 本章小结 | 第67-70页 |
| 第五章 结论与展望 | 第70-72页 |
| 5.1 结论 | 第70-71页 |
| 5.2 本论文的创新点 | 第71页 |
| 5.3 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第78-80页 |
| 作者和导师简介 | 第80-82页 |
| 附件 | 第82-83页 |