摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第12-28页 |
1.1 研究背景 | 第12-13页 |
1.2 光催化技术在净化NO_X方面研究进展 | 第13-16页 |
1.2.1 光催化降解NO_X反应机制 | 第13-14页 |
1.2.2 半导体光催化剂降解NO_X研究 | 第14-16页 |
1.3 g-C_3N_4光催化材料研究现状 | 第16-21页 |
1.3.1 g-C_3N_4的结构 | 第17-18页 |
1.3.2 g-C_3N_4的制备方法 | 第18-19页 |
1.3.3 g-C_3N_4在催化方面应用 | 第19-21页 |
1.4 g-C_3N_4光催化改性方法研究现状 | 第21-25页 |
1.4.1 金属元素掺杂 | 第21-22页 |
1.4.2 非金属元素掺杂 | 第22页 |
1.4.3 半导体复合 | 第22-23页 |
1.4.4 贵金属沉积 | 第23-24页 |
1.4.5 形貌调控 | 第24页 |
1.4.6 非金属材料复合 | 第24-25页 |
1.5 研究内容及技术路线 | 第25-28页 |
1.5.1 主要研究内容 | 第25-26页 |
1.5.2 技术路线图 | 第26-28页 |
第二章 实验材料及方法 | 第28-34页 |
2.1 实验试剂及设备 | 第28-29页 |
2.1.1 实验试剂 | 第28页 |
2.1.2 实验设备 | 第28-29页 |
2.2 材料表征方法 | 第29-31页 |
2.2.1 X-射线衍射(XRD) | 第29页 |
2.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第29页 |
2.2.3 X射线能谱图(EDS) | 第29页 |
2.2.4 紫外-可见漫反射光谱(UV-VisDRS) | 第29-30页 |
2.2.5 傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第30页 |
2.2.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第30-31页 |
2.2.7 光致发光光谱(PL) | 第31页 |
2.3 光催化性能评价 | 第31-34页 |
2.3.1 气相光催化降解装置 | 第31-33页 |
2.3.2 NO光催化降解测试方法 | 第33-34页 |
第三章 Fe掺杂g-C_3N_4光催化剂的制备及性能研究 | 第34-44页 |
3.1 Fe-C_3N_4光催化剂制备 | 第34-35页 |
3.2 材料表征 | 第35-38页 |
3.2.1 X射线衍射分析 | 第35页 |
3.2.2 傅里叶红外分析(FT-IR) | 第35-36页 |
3.2.3 紫外-可见漫发射光谱(UV-VisDRS)分析 | 第36-37页 |
3.2.4 扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第37-38页 |
3.3 工艺参数对光催化性能的影响 | 第38-40页 |
3.3.1 Fe掺量对光催化活性的影响 | 第38-39页 |
3.3.2 煅烧温度对光催化活性的影响 | 第39-40页 |
3.3.3 煅烧时间对光催化活性的影响 | 第40页 |
3.4 Fe-C_3N_4光催化剂制备工艺正交设计 | 第40-42页 |
3.5 本章小结 | 第42-44页 |
第四章 新型三元复合光催化剂rGO/Fe~(3+)/g-C_3N_4的构建及性能研究 | 第44-58页 |
4.1 rGO/Fe~(3+)/g-C_3N_4复合光催化剂的制备 | 第44-45页 |
4.2 材料表征 | 第45-54页 |
4.2.1 X射线衍射分析(XRD) | 第45-46页 |
4.2.2 傅里叶红外分析(FT-IR) | 第46-47页 |
4.2.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第47-49页 |
4.2.4 紫外-可见漫发射光谱(UV-VisDRS)分析 | 第49-51页 |
4.2.5 光致发光光谱分析(PL) | 第51-52页 |
4.2.6 扫描电子显微镜与能谱仪联用(SEM-EDS)分析 | 第52-54页 |
4.3 光催化试验结果分析 | 第54-56页 |
4.3.1 光催化活性研究 | 第54-56页 |
4.3.2 催化剂稳定性评价 | 第56页 |
4.4 本章小结 | 第56-58页 |
第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
5.1 主要结论 | 第58-59页 |
5.2 展望 | 第59-60页 |
致谢 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-69页 |
在校期间发表的论著及取得的科研成果 | 第69-70页 |