| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-48页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 “自上而下”的图案化方法 | 第11-15页 |
| 1.2.1 光刻技术 | 第11-13页 |
| 1.2.2 电子束刻蚀技术 | 第13页 |
| 1.2.3 纳米压印技术 | 第13-15页 |
| 1.3 自下而上的表面图案化方法 | 第15-19页 |
| 1.3.1 自组装图案化技术 | 第16-17页 |
| 1.3.2 嵌段共聚物相分离刻蚀技术 | 第17-19页 |
| 1.4 探针显微镜加工技术 | 第19-36页 |
| 1.4.1 扫描探针技术的工作原理及发展历程 | 第19-24页 |
| 1.4.2 原子力探针阳极氧化技术 | 第24-26页 |
| 1.4.3 原子力针尖热刻蚀技术 | 第26-28页 |
| 1.4.4 蘸笔写术 | 第28-30页 |
| 1.4.5 探针机械力刻蚀技术 | 第30-36页 |
| 1.5 本文的研究思路 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-48页 |
| 第2章 AFM刻蚀技术对PMMA聚合物的表面图案化 | 第48-77页 |
| 2.1 引言 | 第48-49页 |
| 2.2 AFM针尖刻蚀加工系统 | 第49-54页 |
| 2.2.1 加工装置及流程 | 第49-50页 |
| 2.2.2 刻蚀过程原子力工作模式 | 第50-52页 |
| 2.2.3 精确定位的闭环反馈系统 | 第52-54页 |
| 2.3 利用探针刻蚀构筑功能性高分子聚合物结构 | 第54-69页 |
| 2.3.1 实验试剂及样品的准备 | 第54-56页 |
| 2.3.2 原子力探针的选择 | 第56-60页 |
| 2.3.3 探针几何参数对刻蚀结构形貌的影响 | 第60-62页 |
| 2.3.4 载荷力的大小对刻蚀深度和宽度的影响 | 第62-64页 |
| 2.3.5 探针速度对结构形貌的影响 | 第64-66页 |
| 2.3.6 聚合物分子量对刻蚀结果的影响 | 第66-68页 |
| 2.3.7 基底退火在刻蚀过程中的作用 | 第68-69页 |
| 2.4 利用机械刻蚀制备纳米尺寸有机发光器件 | 第69-72页 |
| 2.4.1 原子针尖刻蚀技术对基底材料的普适性 | 第69-71页 |
| 2.4.2 纳米尺寸有机发光器件的制备 | 第71-72页 |
| 2.5 小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 第3章 AFM刻蚀技术在构筑一维等离子激元纳米结构中的应用 | 第77-98页 |
| 3.1 引言 | 第77-78页 |
| 3.2 实验部分 | 第78-87页 |
| 3.2.1 一维沟道结构的制备及纳米粒子组装 | 第78-80页 |
| 3.2.2 开尔文探针显微镜及沟道空间电势的表征 | 第80-87页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第87-93页 |
| 3.3.1 侧面电势粒子组装结果的影响 | 第87-90页 |
| 3.3.2 基底电势的对粒子组装行为的调控作用 | 第90-93页 |
| 3.4 小结 | 第93页 |
| 参考文献 | 第93-98页 |
| 第4章 利用AFM刻蚀技术构筑多元化表面等离子激元结构 | 第98-128页 |
| 4.1 引言 | 第98-99页 |
| 4.2 实验部分 | 第99-103页 |
| 4.2.1 实验试剂及仪器 | 第99-100页 |
| 4.2.2 金纳米粒子的合成、组装、生长及器件制备 | 第100-103页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第103-120页 |
| 4.3.1 利用针尖刻蚀技术直接构筑等离子激元纳米粒子结构 | 第103-107页 |
| 4.3.2 多元化等离子激元表面结构的制备 | 第107-111页 |
| 4.3.3 多元化等离子激元结构的光学响应 | 第111-116页 |
| 4.3.4 多元化等离子激元结构的色彩显示效果 | 第116-118页 |
| 4.3.5 多元化等离子激元结构在有机发光器件中的应用 | 第118-120页 |
| 4.4 小结 | 第120-121页 |
| 参考文献 | 第121-128页 |
| 第5章 总结与展望 | 第128-131页 |
| 5.1 总结 | 第128-129页 |
| 5.2 展望 | 第129-131页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第131-133页 |
| 致谢 | 第133-134页 |
