摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第一章 文献综述 | 第13-29页 |
1.1 引言 | 第13页 |
1.2 合成气制甲烷工艺 | 第13-15页 |
1.3 CO甲烷化反应机理 | 第15-16页 |
1.4 合成气甲烷化Ni基催化剂 | 第16-27页 |
1.4.1 Ni基催化剂的失活 | 第16-21页 |
1.4.2 Ni基催化剂的最新研究进展 | 第21-27页 |
1.5 立题依据和研究思路 | 第27-29页 |
1.5.1 立题依据 | 第27-28页 |
1.5.2 研究内容 | 第28-29页 |
第二章 实验部分 | 第29-37页 |
2.1 试剂与仪器 | 第29-30页 |
2.2 催化剂的制备 | 第30-32页 |
2.2.1 SiO_2载体的预处理 | 第30页 |
2.2.2 SiO_2气凝胶载体的预处理 | 第30页 |
2.2.3 浸渍法制备Ni/SiO_2-CN催化剂 | 第30-31页 |
2.2.4 浸渍法制备Ni/SiO_2-IWI催化剂 | 第31页 |
2.2.5 浸渍法制备Ni/SiO_2-AG催化剂 | 第31页 |
2.2.6 胶体法制备Ni/SiO_2-HP催化剂 | 第31-32页 |
2.2.7 胶体法制备NiRu-HP催化剂 | 第32页 |
2.2.8 胶体法制备NiRu-NP催化剂 | 第32页 |
2.3 催化剂的表征 | 第32-35页 |
2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第32-33页 |
2.3.2 N_2物理吸附 | 第33页 |
2.3.3 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第33页 |
2.3.4 H_2化学吸附(H_2-Chemisorption) | 第33-34页 |
2.3.5 CO吸附红外光谱(CO-FTIR) | 第34页 |
2.3.6 X射线光电子能谱表征(XPS) | 第34页 |
2.3.7 透射电镜(TEM) | 第34-35页 |
2.3.8 程序升温加氢(TPH) | 第35页 |
2.4 催化剂的活性评价及产物分析方法 | 第35-37页 |
2.4.1 催化剂的活性评价装置 | 第35页 |
2.4.2 反应性能指标计算 | 第35-37页 |
第三章 负载型Ni-Ru双金属催化剂:表面微观结构、组成及其对CO甲烷化反应性能的影响 | 第37-50页 |
3.1 催化剂微观结构及组成表征 | 第37-46页 |
3.1.1 催化剂还原性及金属粒径表征 | 第37-40页 |
3.1.2 催化剂表面组成表征 | 第40-43页 |
3.1.3 催化剂微观结构表征 | 第43-46页 |
3.2 CO甲烷化反应结果 | 第46-47页 |
3.3 反应后催化剂表征 | 第47-49页 |
3.4 本章小结 | 第49-50页 |
第四章 非金属CNx助剂对Ni/SiO_2催化剂CO甲烷化反应性能影响的研究 | 第50-62页 |
4.1 新鲜催化剂的表征 | 第50-56页 |
4.1.1 XRD | 第50-51页 |
4.1.2 H_2-TPR | 第51-52页 |
4.1.3 H_2-Chemsorption | 第52页 |
4.1.4 XPS | 第52-53页 |
4.1.5 CO-FTIR | 第53-56页 |
4.2 催化剂评价结果及分析 | 第56-57页 |
4.3 反应后催化剂表征 | 第57-59页 |
4.3.1 XRD | 第57-58页 |
4.3.2 XPS | 第58-59页 |
4.4 结果讨论 | 第59-61页 |
4.5 本章小结 | 第61-62页 |
第五章 SiO_2气凝胶负载Ni~0催化剂:孔道扩散对CO甲烷化反应性能的影响 | 第62-68页 |
5.1 新鲜催化剂的表征 | 第62-65页 |
5.1.1 催化剂物理结构表征 | 第62-63页 |
5.1.2 催化剂还原性及粒径尺寸表征 | 第63-65页 |
5.2 CO甲烷化反应结果 | 第65-66页 |
5.3 反应后催化剂表征 | 第66-67页 |
5.3.1 TEM | 第66页 |
5.3.2 XPS | 第66-67页 |
5.4 结果讨论 | 第67页 |
5.5 本章小结 | 第67-68页 |
第六章 总结与展望 | 第68-70页 |
6.1 工作总结 | 第68页 |
6.2 展望 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-84页 |
附录 | 第84-85页 |
1. 作者简介 | 第84页 |
2. 撰写的文章目录 | 第84-85页 |
致谢 | 第85页 |