| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 透明导电薄膜 | 第9-10页 |
| 1.2 基于柔性基体的ZnO薄膜的基本性质 | 第10-13页 |
| 1.2.1 ZnO的晶体结构 | 第10-11页 |
| 1.2.2 ZnO的光学性质 | 第11-12页 |
| 1.2.3 ZnO的电学性质 | 第12-13页 |
| 1.3 ZnO基柔性透明导电薄膜的研究进展及应用前景 | 第13-15页 |
| 1.3.1 ZnO基柔性导电薄膜的研究进展 | 第13-14页 |
| 1.3.2 ZnO基柔性导电薄膜的应用前景 | 第14-15页 |
| 1.4 缓冲层对ZnO基柔性薄膜结构及性能的影响 | 第15-16页 |
| 1.5 掺杂元素对ZnO基柔性薄膜结构及性能的影响 | 第16-18页 |
| 1.6 本论文的研究内容及意义 | 第18-20页 |
| 第2章 ZnO柔性薄膜的制备技术及性能表征方法 | 第20-29页 |
| 2.1 AZO/Al_2O_3/ZnO薄膜的制备 | 第20-23页 |
| 2.1.1 溅射镀膜的原理 | 第20-22页 |
| 2.1.2 AZO薄膜的制备 | 第22-23页 |
| 2.2 薄膜工艺参数的确定 | 第23-25页 |
| 2.3 AZO薄膜性能表征方法 | 第25-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 Al_2O_3缓冲层的AZO薄膜性能研究及机理分析 | 第29-41页 |
| 3.1 Al_2O_3缓冲层对薄膜结构性能的影响 | 第30-34页 |
| 3.2 Al_2O_3缓冲层对薄膜表面形貌的影响 | 第34-37页 |
| 3.3 Al_2O_3缓冲层对薄膜光学性能的影响 | 第37-38页 |
| 3.4 Al_2O_3缓冲层对薄膜电学性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.5 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 不同Al含量对ZnO基薄膜性能的影响 | 第41-50页 |
| 4.1 不同Al含量对薄膜结构性能的影响 | 第41-42页 |
| 4.2 不同Al掺杂量对薄膜表面形貌的影响 | 第42-44页 |
| 4.3 不同Al含量对薄膜光学性能的影响 | 第44-46页 |
| 4.4 不同Al含量对薄膜电学性能的影响 | 第46-49页 |
| 4.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第5章 结论与展望 | 第50-52页 |
| 5.1 结论 | 第50页 |
| 5.2 展望 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-60页 |
| 作者简介 | 第60-61页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第61页 |
