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Bi2O3/TiO2纳米管阵列薄膜的制备及其可见光催化性能研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-22页
    1.1 课题背景及研究目的和意义第9-10页
    1.2 半导体光催化剂概述第10-12页
        1.2.1 常见的半导体光催化剂第10-11页
        1.2.2 TiO2和 Bi2O3光催化剂的性质第11-12页
        1.2.3 半导体光催化氧化基本原理第12页
    1.3 TNTAs 的研究进展第12-17页
        1.3.1 TNTAs 的制备研究第12-16页
        1.3.2 TNTAs 的改性研究第16-17页
    1.4 Bi2O3光催化剂的制备研究第17-18页
    1.5 Bi2O3/TNTAs 的研究进展第18-20页
    1.6 本文主要研究内容第20-22页
第2章 实验材料及方法第22-28页
    2.1 实验仪器第22页
    2.2 实验药品第22-23页
    2.3 实验流程第23页
    2.4 实验方法第23-26页
        2.4.1 两步阳极氧化法制备 TNTAs第23-24页
        2.4.2 溶胶凝胶法制备 Bi2O3光催化剂第24-25页
        2.4.3 浸渍法制备 Bi2O3/TNTAs 薄膜第25-26页
    2.5 测试表征方法第26-27页
        2.5.1 微观形貌分析第26页
        2.5.2 晶相分析第26页
        2.5.3 X-射线光电子能谱分析第26-27页
        2.5.4 紫外-可见吸收光谱分析第27页
    2.6 光催化性能评价第27-28页
第3章 TNTAs 的制备及表征第28-42页
    3.1 引言第28页
    3.2 两步法制备 TNTAs第28-31页
    3.3 H2O 含量对纳米管的影响第31-34页
        3.3.1 H2O 含量对纳米管形貌的影响第31-33页
        3.3.2 H2O 含量对光催化活性的影响第33-34页
    3.4 二次氧化时间对纳米管的影响第34-37页
        3.4.1 二次氧化时间对管长的影响第34-36页
        3.4.2 二次氧化时间对光催化活性的影响第36-37页
    3.5 热处理温度对纳米管的影响第37-41页
        3.5.1 热处理温度对晶体结构的影响第38页
        3.5.2 热处理温度对光吸收性能的影响第38-39页
        3.5.3 热处理温度对光催化活性的影响第39-41页
    3.6 本章小结第41-42页
第4章 Bi2O3/TNTAs 薄膜的制备及光催化性能研究第42-62页
    4.1 引言第42页
    4.2 溶胶凝胶法制备 Bi2O3光催化剂第42-48页
        4.2.1 HNO3对 Bi2O3的影响第42-45页
        4.2.2 PEG200 对 Bi2O3的影响第45-48页
    4.3 浸渍-分解法制备 Bi2O3/TNTAs 薄膜光催化剂第48-54页
        4.3.1 Bi2O3溶胶浓度对 Bi2O3/TNTAs 薄膜的影响第48-50页
        4.3.2 真空度对 Bi2O3/TNTAs 薄膜的影响第50-52页
        4.3.3 热处理温度对 Bi2O3/TNTAs 薄膜的影响第52-54页
    4.4 Bi2O3/TNTAs 薄膜的结构及性能分析第54-60页
        4.4.1 晶体结构分析第54-55页
        4.4.2 化学组态分析第55-57页
        4.4.3 光吸收性能分析第57-58页
        4.4.4 光催化性能分析第58页
        4.4.5 机理分析第58-60页
    4.5 本章小结第60-62页
结论第62-63页
参考文献第63-70页
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果第70-72页
致谢第72页

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