| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 引言 | 第8-30页 |
| 1.1 研究背景 | 第8-10页 |
| 1.2 研究现状及存在问题 | 第10-19页 |
| 1.2.1 纳米金刚石薄膜实验制备研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.2 纳米金刚石薄膜电学性能研究现状 | 第13-17页 |
| 1.2.3 纳米金刚石薄膜光学研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3 纳米金刚石复合薄膜的制备及表征 | 第19-27页 |
| 1.3.1 热丝CVD 方法和电子辅助热丝CVD 法（EACVD） | 第21-22页 |
| 1.3.2 直流辉光 CVD 法 | 第22-23页 |
| 1.3.3 直流等离子体喷射 CVD 法 | 第23页 |
| 1.3.4 微波 PCVD 法（MPCVD） | 第23-25页 |
| 1.3.5 纳米金刚石薄膜表征 | 第25-27页 |
| 1.4 课题研究的目的与意义 | 第27-30页 |
| 2 理论基础 | 第30-37页 |
| 2.1 第一性原理方法 | 第30页 |
| 2.2 BornOppenheimer 近似 | 第30页 |
| 2.3 密度泛函理论（DFT） | 第30-34页 |
| 2.3.1 HohenbergKohn 定理 | 第31页 |
| 2.3.2 KohnSham 近似 | 第31-32页 |
| 2.3.3 自洽KohnSham 方程 | 第32页 |
| 2.3.4 交互关联函数近似 | 第32-34页 |
| 2.4 光学性质的理论基础 | 第34-36页 |
| 2.5 计算所使用的软件（VASP） | 第36-37页 |
| 3 研究方法的验证 | 第37-44页 |
| 3.1 计算方法和模型 | 第37页 |
| 3.2 结构模型优化 | 第37-38页 |
| 3.3 电子结构 | 第38-40页 |
| 3.4 光学性质 | 第40-42页 |
| 3.5 小结 | 第42-44页 |
| 4 单晶式多晶体纳米金刚石薄膜的电子特性 | 第44-66页 |
| 4.1 不同晶粒尺寸的金刚石薄膜的电子特性 | 第44-49页 |
| 4.1.1 模型的建立 | 第44-46页 |
| 4.1.2 计算结果与讨论 | 第46-49页 |
| 4.1.3 小结 | 第49页 |
| 4.2 不同晶粒尺寸金刚石中的Si 界面的电子特性 | 第49-54页 |
| 4.2.1 模型的建立 | 第50页 |
| 4.2.2 计算结果与讨论 | 第50-54页 |
| 4.2.3 小结 | 第54页 |
| 4.3 不同晶粒尺寸金刚石中的P 界面的电子特性 | 第54-59页 |
| 4.3.1 模型的建立 | 第54-55页 |
| 4.3.2 计算结果与讨论 | 第55-58页 |
| 4.3.3 小结 | 第58-59页 |
| 4.4 不同晶粒尺寸金刚石中的B 界面的电子特性 | 第59-63页 |
| 4.4.1 模型的建立 | 第59-60页 |
| 4.4.2 计算结果与讨论 | 第60-63页 |
| 4.4.3 小结 | 第63页 |
| 4.5 本章总结 | 第63-66页 |
| 5 全文工作总结及展望 | 第66-68页 |
| 5.1 工作总结 | 第66页 |
| 5.2 工作展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-78页 |
| 索引 | 第78-80页 |
| 图的列表 | 第78-79页 |
| 表格列表 | 第79-80页 |
| 在学研究成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |