摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-18页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 微弧氧化技术简介 | 第11页 |
1.3 钛合金微弧氧化研究现状 | 第11-13页 |
1.3.1 电参数对钛合金微弧氧化的影响 | 第11-12页 |
1.3.2 电解液对钛合金微弧氧化的影响 | 第12-13页 |
1.4 钛合金搪瓷涂层 | 第13-15页 |
1.4.1 搪瓷工艺简介 | 第13页 |
1.4.2 搪瓷涂层的制备方法 | 第13-14页 |
1.4.3 搪瓷涂层的应用局限 | 第14-15页 |
1.5 本课题的研究目的及意义 | 第15页 |
1.6 本课题的技术路线 | 第15-18页 |
2 实验设备与方法 | 第18-26页 |
2.1 实验材料与设备 | 第18-19页 |
2.2 试件的预处理 | 第19页 |
2.3 微弧氧化陶瓷层的制备 | 第19页 |
2.3.1 微弧氧化电解液的配制 | 第19页 |
2.3.2 微弧氧化处理及电参数 | 第19页 |
2.3.3 微弧氧化试样的保存 | 第19页 |
2.4 搪瓷涂层及瓷釉复合层的制备 | 第19-22页 |
2.4.1 瓷釉层组分的选择 | 第19-21页 |
2.4.2 搪涂浆料的制备 | 第21页 |
2.4.3 搪瓷涂层与瓷釉复合层的制备流程 | 第21-22页 |
2.4.4 搪瓷涂层与瓷釉复合层的干燥工艺 | 第22页 |
2.4.5 搪瓷涂层与瓷釉复合层的烧结工艺 | 第22页 |
2.5 分析和测试方法 | 第22-26页 |
2.5.1 涂层厚度测试 | 第22-23页 |
2.5.2 涂层粗糙度测试 | 第23页 |
2.5.3 涂层物相分析 | 第23页 |
2.5.4 涂层微观形貌观察 | 第23页 |
2.5.5 涂层击穿电压测试 | 第23-24页 |
2.5.6 涂层结合力测试 | 第24-26页 |
3 微弧氧化陶瓷层、搪瓷涂层和瓷釉复合层的性能研究 | 第26-32页 |
3.1 三种不同涂层的宏观形貌 | 第26-27页 |
3.2 三种不同涂层的相组成 | 第27页 |
3.3 三种不同涂层的微观形貌 | 第27-28页 |
3.4 三种不同涂层的结合力 | 第28页 |
3.5 三种不同涂层的绝缘性能 | 第28-29页 |
3.6 本章小结 | 第29-32页 |
4 微弧氧化单脉冲能量对瓷釉复合层的影响 | 第32-42页 |
4.1 脉冲频率对瓷釉复合层的影响 | 第32-36页 |
4.1.1 脉冲频率对微弧氧化陶瓷层厚度和粗糙度的影响 | 第32页 |
4.1.2 脉冲频率对微弧氧化陶瓷层相组成的影响 | 第32-33页 |
4.1.3 脉冲频率对微弧氧化陶瓷层微观结构的影响 | 第33-34页 |
4.1.4 脉冲频率对瓷釉复合层结合强度的影响 | 第34-35页 |
4.1.5 脉冲频率对瓷釉复合层绝缘性能的影响 | 第35-36页 |
4.2 占空比对瓷釉复合层的影响 | 第36-40页 |
4.2.1 占空比对微弧氧化陶瓷层厚度和粗糙度的影响 | 第36-37页 |
4.2.2 占空比对微弧氧化陶瓷层相组成的影响 | 第37-38页 |
4.2.3 占空比对微弧氧化陶瓷层微观结构组成的影响 | 第38-39页 |
4.2.4 占空比对瓷釉复合层结合强度的影响 | 第39-40页 |
4.2.5 占空比对瓷釉复合层绝缘性能的影响 | 第40页 |
4.3 本章小结 | 第40-42页 |
5 烧结工艺对钛合金瓷釉复合层的影响 | 第42-50页 |
5.1 烧结温度对钛合金瓷釉复合层的影响 | 第42-45页 |
5.1.1 烧结温度对瓷釉复合层宏观形貌的影响 | 第42页 |
5.1.2 烧结温度对瓷釉复合层相组成的影响 | 第42-43页 |
5.1.3 烧结温度对瓷釉复合层微观形貌的影响 | 第43-44页 |
5.1.4 烧结温度对瓷釉复合层结合强度的影响 | 第44-45页 |
5.1.5 烧结温度对瓷釉复合层绝缘性能的影响 | 第45页 |
5.2 保温时间对钛合金瓷釉复合层的影响 | 第45-48页 |
5.2.1 保温时间对瓷釉复合层宏观形貌的影响 | 第45-46页 |
5.2.2 保温时间对瓷釉复合层相组成的影响 | 第46-47页 |
5.2.3 保温时间瓷釉复合层微观形貌的影响 | 第47页 |
5.2.4 保温时间对瓷釉复合层结合强度的影响 | 第47-48页 |
5.2.5 保温时间对瓷釉复合层绝缘性能的影响 | 第48页 |
5.3 本章小结 | 第48-50页 |
6 结论 | 第50-52页 |
致谢 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-56页 |