| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第8-9页 |
| 1.2 掺硼金刚石的结构与性质 | 第9-10页 |
| 1.2.1 掺硼金刚石的结构 | 第9-10页 |
| 1.2.2 掺硼金刚石的性质 | 第10页 |
| 1.3 掺硼石墨烯的结构与性质 | 第10-11页 |
| 1.3.1 掺硼石墨烯的结构 | 第10-11页 |
| 1.3.2 掺硼石墨烯的性质 | 第11页 |
| 1.4 掺硼金刚石和掺硼石墨烯的的制备方法 | 第11-14页 |
| 1.4.1 掺硼金刚石的制备方法 | 第11-13页 |
| 1.4.2 掺硼石墨烯的制备方法 | 第13-14页 |
| 1.5 掺硼金刚石和石墨烯在生物传感器方面的研究现状 | 第14-16页 |
| 1.5.1 掺硼金刚石在生物传感器方面的研究现状 | 第14-15页 |
| 1.5.2 石墨烯在生物传感器方面的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.6 课题研究内容与创新性 | 第16-17页 |
| 第二章 实验与分析方法 | 第17-25页 |
| 2.1 所需实验仪器与化学试剂 | 第17-18页 |
| 2.2 薄膜生长设备简介 | 第18-21页 |
| 2.2.1 EA-CVD设备简介 | 第18-19页 |
| 2.2.2 DC arc plasma jet CVD设备简介 | 第19-21页 |
| 2.3 薄膜制备流程 | 第21-24页 |
| 2.3.1 BDD薄膜的制备流程 | 第21页 |
| 2.3.2 PBDD薄膜的制备流程 | 第21-22页 |
| 2.3.3 VBG薄膜的制备流程 | 第22-23页 |
| 2.3.4 一步法制备VBG/BDD/Ta电极 | 第23页 |
| 2.3.5 电沉积纳米金制备Au-VBG/BDD/Ta电极 | 第23-24页 |
| 2.4 表征测试与电化学分析方法 | 第24-25页 |
| 2.4.1 表征测试方法 | 第24页 |
| 2.4.2 电化学分析方法 | 第24-25页 |
| 第三章 纳米多孔掺硼金刚石薄膜的性能研究 | 第25-38页 |
| 3.1 BDD薄膜的表征与电化学特性 | 第25-27页 |
| 3.1.1 BDD薄膜的表征 | 第25-26页 |
| 3.1.2 BDD薄膜的电化学特性 | 第26-27页 |
| 3.2 PBDD薄膜的微观结构 | 第27-30页 |
| 3.2.1 溅射Ni时间变化的影响 | 第27页 |
| 3.2.2 刻蚀时间变化的影响 | 第27-28页 |
| 3.2.3 PBDD薄膜的晶体模型 | 第28-30页 |
| 3.3 PBDD薄膜的表征分析 | 第30-35页 |
| 3.3.1 拉曼光谱分析 | 第30-31页 |
| 3.3.2 XRD图谱分析 | 第31-32页 |
| 3.3.3 XPS图谱分析 | 第32-35页 |
| 3.4 PBDD薄膜的电化学特性 | 第35-37页 |
| 3.4.1 循环伏安特性分析 | 第35-36页 |
| 3.4.2 阻抗图谱分析 | 第36-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 垂直掺硼石墨烯/掺硼金刚石电极的制备工艺研究 | 第38-45页 |
| 4.1 硼源流量对石墨烯掺杂的影响 | 第38-39页 |
| 4.2 生长时间对石墨烯的影响 | 第39-41页 |
| 4.3 Au-VBG/BDD/Ta电极的表征分析 | 第41-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 基于垂直掺硼石墨烯/掺硼金刚石构建夹心式免疫传感器 | 第45-54页 |
| 5.1 制备探针标签溶液 | 第45-47页 |
| 5.2 构建夹心免疫传感器 | 第47-48页 |
| 5.3 电极的电化学性能分析 | 第48-50页 |
| 5.4 DPV法检测CEA和CA125 | 第50-53页 |
| 5.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 本文总结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
