智能抛光方法去除特性及控制技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第12页 |
| 1.2 非球面光学元件加工方法 | 第12-14页 |
| 1.3 光学元件抛光技术概况 | 第14-22页 |
| 1.3.1 小磨头抛光技术 | 第16-19页 |
| 1.3.2 能动盘抛光技术 | 第19-20页 |
| 1.3.3 气囊抛光技术 | 第20-22页 |
| 1.4 智能抛光控制关键技术研究 | 第22-23页 |
| 1.5 论文主要研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 不同抛光方法去除特性研究 | 第25-43页 |
| 2.1 不同抛光方法的去除函数比较 | 第25-35页 |
| 2.1.1 小磨头抛光去除函数 | 第25-29页 |
| 2.1.2 能动盘抛光去除函数 | 第29-31页 |
| 2.1.3 气囊抛光去除函数 | 第31-35页 |
| 2.2 去除函数频谱及误差修正能力分析 | 第35-41页 |
| 2.2.1 小磨头抛光去除函数频谱及分析 | 第35-37页 |
| 2.2.2 能动盘抛光去除函数频谱及分析 | 第37-39页 |
| 2.2.3 气囊抛光去除函数频谱及分析 | 第39-41页 |
| 2.3 小结 | 第41-43页 |
| 第三章 智能抛光运动控制算法研究 | 第43-69页 |
| 3.1 非球面气囊抛光进动控制算法 | 第43-55页 |
| 3.1.1 气囊抛光进动运动控制 | 第43-45页 |
| 3.1.2 非球面气囊抛光进动运动建模 | 第45-46页 |
| 3.1.3 工件上任意两相邻抛光点的进动运动模型 | 第46-50页 |
| 3.1.4 气囊抛光进动控制及运动仿真 | 第50-55页 |
| 3.2 抛光路径规化 | 第55-67页 |
| 3.2.1 光栅路径 | 第55-56页 |
| 3.2.2 螺旋线路径 | 第56-58页 |
| 3.2.3 基于改进Prim算法的抛光路径 | 第58-67页 |
| 3.3 小结 | 第67-69页 |
| 第四章 智能抛光系统工艺控制软件开发 | 第69-78页 |
| 4.1 需求分析 | 第69-70页 |
| 4.2 系统总体架构规划 | 第70-71页 |
| 4.3 系统详细设计 | 第71-76页 |
| 4.3.1 平面制造子系统 | 第71-74页 |
| 4.3.2 非球面制造子系统 | 第74-76页 |
| 4.4 小结 | 第76-78页 |
| 第五章 抛光验证实验 | 第78-91页 |
| 5.1 实验设备及加工环境 | 第78-79页 |
| 5.2 光学元件抛光实验 | 第79-90页 |
| 5.2.1 Prim路径对比实验 | 第80-83页 |
| 5.2.2 加工临界值对比实验 | 第83-86页 |
| 5.2.3 网格大小和进给速度对比实验 | 第86-90页 |
| 5.3 小结 | 第90-91页 |
| 第六章 总结与展望 | 第91-93页 |
| 6.1 总结 | 第91-92页 |
| 6.2 展望 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 硕士期间科研成果 | 第99-100页 |
