摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第9-11页 |
第1章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 硅纳米线阵列 | 第11-14页 |
1.1.1 硅纳米线阵列概述 | 第11页 |
1.1.2 硅纳米线阵列的制备方法 | 第11-14页 |
1.2 硅纳米线阵列的应用现状 | 第14-18页 |
1.3 硅纳米线阵列的表面改性 | 第18-21页 |
1.4 课题的提出 | 第21-23页 |
1.4.1 研究目的及意义 | 第21页 |
1.4.2 研究内容和实验方案 | 第21-23页 |
第2章 硅纳米线阵列的制备及表面处理 | 第23-35页 |
2.1 引言 | 第23页 |
2.2 实验部分 | 第23-28页 |
2.2.1 原料与试剂 | 第23-24页 |
2.2.2 实验仪器 | 第24页 |
2.2.3 硅纳米线阵列的制备 | 第24-27页 |
2.2.4 硅纳米线阵列的表面处理 | 第27页 |
2.2.5 表面性质的表征 | 第27-28页 |
2.3 结果与讨论 | 第28-34页 |
2.3.1 硅纳米线阵列的制备 | 第28-31页 |
2.3.2 表面性质表征 | 第31-34页 |
2.4 本章小结 | 第34-35页 |
第3章 硅纳米线阵列催化还原硝基苯类衍生物的研究 | 第35-45页 |
3.1 引言 | 第35-36页 |
3.2 实验部分 | 第36-38页 |
3.2.1 材料与试剂 | 第36页 |
3.2.2 实验仪器 | 第36-37页 |
3.2.3 硅纳米线阵列的制备 | 第37页 |
3.2.4 硅纳米线阵列表面处理 | 第37页 |
3.2.5 表征 | 第37页 |
3.2.6 氢化硅纳米线阵列催化还原对硝基苯酚 | 第37-38页 |
3.3 结果与讨论 | 第38-43页 |
3.3.1 硅纳米线阵列表面化学性质对其催化性能的影响 | 第38-40页 |
3.3.2 氢化硅纳米线阵列催化还原对硝基苯酚 | 第40-41页 |
3.3.3 硅纳米线阵长度对催化性能的影响 | 第41-42页 |
3.3.4 氢化硅纳米线阵列催化 PNP 还原的重复利用性 | 第42页 |
3.3.5 氢化硅纳米线阵列对硝基苯衍生物的还原作用 | 第42-43页 |
3.4 本章小结 | 第43-45页 |
第4章 硅纳米线阵列表面化学接枝聚合物研究 | 第45-63页 |
4.1 引言 | 第45-46页 |
4.2 实验部分 | 第46-52页 |
4.2.1 材料与试剂 | 第46-47页 |
4.2.2 实验仪器 | 第47-48页 |
4.2.3 硅纳米线阵列的制备 | 第48页 |
4.2.4 硅纳米线阵列表面接枝 PDMAEMA 和 PNIPAAm | 第48-50页 |
4.2.5 硅纳米线阵列表面接枝 PEG | 第50-51页 |
4.2.6 硅纳米线阵列表面接枝 PEI | 第51-52页 |
4.3 结果与讨论 | 第52-61页 |
4.3.1 硅纳米线阵列表面修饰聚合物——Grafting from 法 | 第52-57页 |
4.3.2 硅纳米线阵列表面修饰聚合物——Grafting to 法 | 第57-61页 |
4.4 本章小结 | 第61-63页 |
结论与展望 | 第63-66页 |
5.1 结论 | 第63-64页 |
5.2 展望 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-75页 |
攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第75-76页 |
致谢 | 第76-78页 |