| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-41页 |
| 1.1 大面积一维纳米阵列的合成与组装 | 第10-33页 |
| 1.1.1 大面积一维纳米阵列概述 | 第10页 |
| 1.1.2 大面积一维纳米阵列的合成与组装 | 第10-33页 |
| 1.2 一维有机纳米材料在光电探测器中的应用及发展前景 | 第33-36页 |
| 1.3 课题的提出与意义 | 第36-37页 |
| 参考文献 | 第37-41页 |
| 第二章 溶剂挥发辅助诱导自组装制备大面积超长甲基方酸微米线阵列及其光电探测性能研究 | 第41-53页 |
| 2.1 引言 | 第41-42页 |
| 2.2 实验部分 | 第42-44页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第42-43页 |
| 2.2.2 大面积超长 MeSq 微米线阵列的制备 | 第43页 |
| 2.2.3 基于大面积超长 MeSq 微米线阵列的近红外光电探测器制备 | 第43-44页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第44-49页 |
| 2.3.1 大面积超长 MeSq 微米线阵列形貌和结构分析 | 第44-45页 |
| 2.3.2 基于大面积超长 MeSq 微米线阵列的近红外光电探测器制备和光电性能表征 | 第45-46页 |
| 2.3.3 基于大面积超长 MeSq 微米线阵列的柔性光电探测器件制备与表征 | 第46-49页 |
| 2.4 本章小结 | 第49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 第三章 分子模板和光刻胶条纹模板辅助挥发诱导自组装制备大面积超长甲基方酸微米线阵列及其近红外光电探测性能研究 | 第53-65页 |
| 3.1 引言 | 第53-54页 |
| 3.2 实验部分 | 第54-56页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第54页 |
| 3.2.2 周期性分子模板和光刻胶条纹模板制备 | 第54-55页 |
| 3.2.3 基于大面积超长 MeSq 微米线阵列的近红外光电探测器制备 | 第55-56页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第56-62页 |
| 3.3.1 大面积超长 MeSq 微米线阵列的制备 | 第56-59页 |
| 3.3.2 平行超长 MeSq 微米线阵列生长的机理解释 | 第59-60页 |
| 3.3.3 MeSq 微米线阵列光电探测器件制备与性能测试 | 第60-62页 |
| 3.4 本章小结 | 第62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 第四章 光刻胶沟道模板辅助挥发诱导自组装构筑大面积超长富勒烯微米线阵列及其光电探测性能研究 | 第65-73页 |
| 4.1 引言 | 第65-66页 |
| 4.2 实验部分 | 第66-67页 |
| 4.2.1 基于大面积超长富勒烯微米线阵列的制备 | 第66页 |
| 4.2.2 基于大面积超长富勒烯微米线阵列的光电探测器制备 | 第66-67页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第67-70页 |
| 4.4 本章小结 | 第70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 第五章 结论 | 第73-75页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
