| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 前言 | 第6-28页 |
| 1.1 低维纳米半导体材料简介 | 第6-17页 |
| 1.1.1 半导体量子点材料 | 第7-11页 |
| 1.1.2 半导体纳米线材料 | 第11-16页 |
| 1.1.3 半导体纳米片纳米带 | 第16-17页 |
| 1.2 半导体纳米材料光解水研究 | 第17-25页 |
| 1.3 论文选题 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-28页 |
| 第二章 硫化镉硒化镉纳米线纳米带的合成及生长机理研究 | 第28-47页 |
| 2.1 前言 | 第28-33页 |
| 2.1.1 纳米线合成方法与生长机理 | 第28-29页 |
| 2.1.2 纳米线生长研究现状 | 第29-33页 |
| 2.1.3 硫化镉、硒化镉纳米线合成 | 第33页 |
| 2.2 实验部分 | 第33-35页 |
| 2.2.1 化学药品与材料 | 第33-34页 |
| 2.2.2 硫化镉硒化镉纳米线的化学气相沉积法合成 | 第34页 |
| 2.2.3 表征与测试 | 第34-35页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第35-45页 |
| 2.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第三章 硫硒化镉纳米线的合成 | 第47-57页 |
| 3.2 前言 | 第47-51页 |
| 3.2.1 枝状纳米线的合成 | 第47-50页 |
| 3.2.2 硫硒化镉纳米线的合成 | 第50-51页 |
| 3.3 实验部分 | 第51-56页 |
| 3.3.1 化学药品与材料 | 第51页 |
| 3.3.2 硫硒化镉纳米线的化学气相沉积法合成 | 第51页 |
| 3.3.3 表征与测试 | 第51-52页 |
| 3.3.4 结果与讨论 | 第52-56页 |
| 3.4 本章小结 | 第56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第四章 掺杂二氧化钛纳米线生长及光解水性能研究 | 第57-66页 |
| 4.1 前言 | 第57页 |
| 4.2 二氧化钛纳米线/管的合成 | 第57页 |
| 4.3 二氧化钛纳米材料光解水的研究 | 第57-59页 |
| 4.4 实验部分 | 第59-60页 |
| 4.4.1 化学药品与材料 | 第59页 |
| 4.4.2 二氧化钛纳米线合成 | 第59页 |
| 4.4.3 形貌结构表征 | 第59-60页 |
| 4.4.4 电化学表征 | 第60页 |
| 4.5 实验结果与讨论 | 第60-65页 |
| 4.6 本章总结 | 第65页 |
| 参考文献 | 第65-66页 |
| 第五章 三氧化钨纳米片石墨烯复合物合成及其光解水性能研究 | 第66-77页 |
| 5.1 前言 | 第66页 |
| 5.2 三氧化钨光解水的研究 | 第66-68页 |
| 5.3 三氧化钨石墨烯复合材料研究 | 第68-69页 |
| 5.4 实验部分 | 第69-70页 |
| 5.4.1 化学药品与材料 | 第69页 |
| 5.4.2 三氧化钨纳米片合成 | 第69页 |
| 5.4.3 氧化石墨烯合成与原位还原 | 第69-70页 |
| 5.4.4 形貌表征 | 第70页 |
| 5.4.5 电化学表征 | 第70页 |
| 5.5 实验结果与讨论 | 第70-75页 |
| 5.6 本章小结 | 第75页 |
| 参考文献 | 第75-77页 |
| 全文总结 | 第77-78页 |
| 附录一 硕士期间论文发表情况 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
