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磁控溅射涂层对镁合金耐蚀性能的研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-18页
    1.1 镁及镁合金特点第9页
    1.2 镁合金的应用第9-13页
        1.2.1 镁合金在汽车上的应用第9-11页
        1.2.2 镁合金在航空航天上的应用第11-12页
        1.2.3 镁合金在电子产品上的应用第12-13页
    1.3 镁及镁合金腐蚀原理第13-14页
    1.4 镁合金防腐方法及研究现状第14-17页
        1.4.1 冶金提纯法第14页
        1.4.2 化学转化膜法第14-15页
        1.4.3 化学镀法第15页
        1.4.4 阳极氧化法第15-17页
        1.4.5 气相沉积法第17页
    1.5 研究意义、目的及方法第17-18页
2 实验设备及原理第18-26页
    2.1 磁控溅射设备第18-21页
        2.1.1 磁控溅射原理第19-20页
        2.1.2 磁控溅射镀膜过程第20页
        2.1.3 磁控溅射镀膜特点第20-21页
    2.2 盐雾腐蚀设备及原理第21-26页
        2.2.1 盐雾腐蚀设备第21-22页
        2.2.2 盐雾腐蚀原理第22页
        2.2.3 影响盐雾腐蚀的因素第22-23页
        2.2.4 盐雾试验标准第23-26页
3.TiN 涂层的制备和性能检测第26-40页
    3.1 引言第26页
    3.2 试验材料及化学成分第26页
    3.3 TiN 涂层的制备第26-28页
        3.3.1 镀前准备第26-27页
        3.3.2 镀膜工艺第27-28页
        3.3.3 正交试验设计第28页
    3.4 TiN 涂层盐雾腐蚀试验及评级结果第28-31页
    3.5 正交实验分析第31-34页
        3.5.1 正交分析过程第31-32页
        3.5.2 方差分析第32-34页
    3.6 TiN 涂层厚度的测定第34-38页
        3.6.1 测量仪器及工作原理第34-35页
        3.6.2 TiN 膜厚的测量第35-37页
        3.6.3 TiN 涂层厚度与耐蚀性关系的分析第37-38页
    3.7 本章小结第38-40页
4 复合膜 TiNC 的制备和性能检测第40-49页
    4.1 引言第40页
    4.2 复合膜 TiNC 的制备第40-41页
        4.2.1 镀前准备第40页
        4.2.2 镀膜工艺第40-41页
    4.3 TiNC 涂层腐蚀试验及评级结果第41-44页
    4.4 正交试验分析第44-46页
        4.4.1 正交分析过程第44-46页
        4.4.2 方差分析第46页
    4.5 TiCN 涂层耐蚀分析第46-47页
    4.7 TiNC 复合涂层厚度检测第47页
    4.8 本章小结第47-49页
5 TiNC 涂层的电化学腐蚀及其耐蚀评价第49-55页
    5.1 电化学测试原理第49页
    5.2 极化曲线的测定及表征第49-51页
        5.2.1 极化曲线的测定第49-50页
        5.2.2 腐蚀性能的表征第50-51页
    5.3 实验仪器第51页
    5.4 镁合金电极实验的制备第51-52页
    5.5 溶液的选择第52页
    5.6 实验结果第52-55页
6 结论与展望第55-57页
    6.1 结论第55页
    6.2 展望第55-57页
参考文献第57-61页
在读期间发表的学术论文第61-62页
作者简历第62-63页
致谢第63-64页

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