| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 铝和铝合金的性质及应用 | 第11页 |
| 1.2 表面处理技术 | 第11-14页 |
| 1.2.1 阳极氧化技术 | 第12页 |
| 1.2.2 化学镀 | 第12-13页 |
| 1.2.3 离子注入法 | 第13-14页 |
| 1.3 微弧氧化技术 | 第14-18页 |
| 1.3.1 微弧氧化基本原理 | 第14-15页 |
| 1.3.2 微弧氧化技术特点 | 第15-16页 |
| 1.3.3 微弧氧化应用领域 | 第16-17页 |
| 1.3.4 铝合金微弧氧化存在的问题 | 第17-18页 |
| 1.4 微弧氧化陶瓷膜的摩擦学性能 | 第18-19页 |
| 1.5 本课题的提出及创新性 | 第19页 |
| 1.6 课题的研究内容及技术路线 | 第19-21页 |
| 第2章 实验设备与试验方法 | 第21-28页 |
| 2.1 实验材料 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验工件的选择 | 第21页 |
| 2.1.2 试样的制备与前处理 | 第21-22页 |
| 2.2 微弧氧化工艺 | 第22页 |
| 2.2.1 电解液配制 | 第22页 |
| 2.2.2 微弧氧化处理 | 第22页 |
| 2.3 实验方案 | 第22-25页 |
| 2.3.1 电解液成分的选择 | 第22-25页 |
| 2.4 分析测试 | 第25-28页 |
| 2.4.1 微弧氧化设备 | 第25页 |
| 2.4.2 膜层厚度测量 | 第25页 |
| 2.4.3 微弧氧化陶瓷膜显微组织及相分析 | 第25-26页 |
| 2.4.4 摩擦磨损实验 | 第26页 |
| 2.4.5 电化学实验 | 第26-28页 |
| 第3章 微弧氧化工艺分析 | 第28-42页 |
| 3.1 微弧氧化参数选择 | 第28-32页 |
| 3.1.1 电解液组分的选择 | 第28-29页 |
| 3.1.2 成分优化 | 第29-32页 |
| 3.2 工艺参数优化 | 第32-41页 |
| 3.2.1 工作电压对膜层厚度与表面结构的影响 | 第33-35页 |
| 3.2.2 氧化时间对膜层的影响 | 第35-37页 |
| 3.2.3 频率对膜层厚度及其表面形貌影响 | 第37-39页 |
| 3.2.4 占空比对膜层厚度及表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 微弧氧化复合陶瓷膜的制备及其影响 | 第42-55页 |
| 4.1 MgO/Al_2O_3复合陶瓷的制备及其研究 | 第42-50页 |
| 4.1.1 MgO/Al_2O_3复合陶瓷膜表面形貌截面及厚度研究 | 第42-45页 |
| 4.1.2 MgO/Al_2O_3复合陶瓷膜的截面形貌 | 第45-46页 |
| 4.1.3 MgO/Al_2O_3复合陶瓷膜相成分及元素分布 | 第46-48页 |
| 4.1.4 MgO/A12O3复合陶瓷膜元素分布 | 第48-50页 |
| 4.2 SiO_2/Al_2O_3复合陶瓷膜的制备 | 第50-54页 |
| 4.2.1 SiO_2/Al_2O_3复合陶瓷膜的表面形貌 | 第50-52页 |
| 4.2.2 SiO_2/Al_2O_3复合陶瓷膜的截面形貌 | 第52页 |
| 4.2.3 SiO_2/Al_2O_3复合陶瓷膜的相组成 | 第52-54页 |
| 4.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第5章 微弧氧化复合陶瓷膜性能分析 | 第55-61页 |
| 5.1 复合陶瓷膜耐磨性能的研究 | 第55-59页 |
| 5.1.1 添加MgO、SiO_2添加剂氧化膜层耐磨性的影响 | 第55-57页 |
| 5.1.2 复合陶瓷膜磨损后表面形貌 | 第57-58页 |
| 5.1.3 复合陶瓷膜的磨损失重 | 第58-59页 |
| 5.2 复合陶瓷膜耐蚀性分析 | 第59-60页 |
| 5.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
