| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 信息显示技术简介 | 第12-16页 |
| 1.1.1 OLED显示技术发展简史 | 第13-15页 |
| 1.1.2 OLED器件结构及发光原理 | 第15-16页 |
| 1.2 OLED失效机理与水氧渗透过程介绍 | 第16-18页 |
| 1.2.1 气体渗透过程 | 第16-17页 |
| 1.2.2 OLED失效机理 | 第17-18页 |
| 1.3 OLED封装技术 | 第18-21页 |
| 1.3.1 阻隔机制 | 第18-21页 |
| 1.3.2 基于硬质衬底的封装技术 | 第21页 |
| 1.3.3 基于柔性衬底的封装技术 | 第21页 |
| 1.4 我们的工作内容和意义 | 第21-23页 |
| 第二章 薄膜封装技术介绍 | 第23-31页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 封装薄膜沉积工艺 | 第23-26页 |
| 2.2.1 物理气相沉积 | 第23-24页 |
| 2.2.2 化学气相沉积 | 第24页 |
| 2.2.3 原子层沉积/分子层沉积 | 第24-25页 |
| 2.2.4 溶液加工法 | 第25-26页 |
| 2.3 薄膜封装结构 | 第26-27页 |
| 2.3.1 单层结构 | 第26页 |
| 2.3.2 有机-无机叠层结构 | 第26-27页 |
| 2.3.3 无机-无机叠层结构 | 第27页 |
| 2.4 封装膜水汽透过率的表征方法 | 第27-31页 |
| 2.4.1 商用标准检测方法 | 第27-29页 |
| 2.4.2 钙膜腐蚀测试法 | 第29-30页 |
| 2.4.3 其它检测法 | 第30-31页 |
| 第三章 基于ALD制备高阻隔性能的无机封装薄膜 | 第31-50页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 低温制备Al_2O_3封装薄膜 | 第31-40页 |
| 3.2.1 薄膜制备 | 第31-32页 |
| 3.2.2 薄膜表征 | 第32-38页 |
| 3.2.3 封装器件性能验证 | 第38-40页 |
| 3.3 低温制备Al_2O_3/MGO纳米叠层结构封装薄膜 | 第40-48页 |
| 3.3.1 薄膜制备 | 第41页 |
| 3.3.2 薄膜表征 | 第41-47页 |
| 3.3.3 封装器件性能验证 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 增加聚合物保护层对无机薄膜封装性能的影响 | 第50-67页 |
| 4.1 引言 | 第50-51页 |
| 4.2 聚合物薄膜的制备与表征 | 第51-55页 |
| 4.2.1 薄膜制备 | 第51-52页 |
| 4.2.2 薄膜表征 | 第52-55页 |
| 4.3 无机-有机复合封装薄膜阻隔性能表征 | 第55-61页 |
| 4.3.1 WVTR测试 | 第55-57页 |
| 4.3.2 器件制备 | 第57页 |
| 4.3.3 封装对器件发光性能的影响 | 第57-58页 |
| 4.3.4 高温高湿条件下，封装后的OLED器件存储性能 | 第58-60页 |
| 4.3.5 高温高湿条件下，封装后的OLED器件亮度衰减情况 | 第60-61页 |
| 4.4 大尺寸OLED器件上的封装验证 | 第61-63页 |
| 4.4.1 高温高湿条件下，封装后的OLED器件存储性能 | 第61-63页 |
| 4.4.2 室温大气环境下，封装后的OLED器件长时间点亮观察 | 第63页 |
| 4.5 封装性能改善的机理分析 | 第63-65页 |
| 4.6 耐药性测试 | 第65-66页 |
| 4.7 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| 附件 | 第83页 |
