| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 氧化钨的结构 | 第10-12页 |
| 1.2.1 WO_3的晶体结构 | 第10-11页 |
| 1.2.2 WO_3水合物 | 第11-12页 |
| 1.3 纳米结构WO_3薄膜 | 第12-17页 |
| 1.3.1 无序纳米结构WO_3薄膜 | 第12-13页 |
| 1.3.2 有序纳米结构WO_3薄膜 | 第13-17页 |
| 1.4 纳米结构WO_3薄膜的制备方法 | 第17-22页 |
| 1.4.1 溅射法 | 第17页 |
| 1.4.2 热蒸发法 | 第17-18页 |
| 1.4.3 化学气相沉积法 | 第18页 |
| 1.4.4 溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
| 1.4.5 阳极氧化法 | 第19页 |
| 1.4.6 电化学沉积法 | 第19-20页 |
| 1.4.7 模板法 | 第20页 |
| 1.4.8 水热法 | 第20-22页 |
| 1.5 纳米结构WO_3薄膜的应用 | 第22-23页 |
| 1.5.1 变色材料及气敏材料 | 第22页 |
| 1.5.2 光解水制氢 | 第22-23页 |
| 1.5.3 染料敏化太阳能电池 | 第23页 |
| 1.6 本课题研究的目的与意义 | 第23-25页 |
| 第二章 实验与测试方法 | 第25-30页 |
| 2.1 实验仪器和设备 | 第25页 |
| 2.2 实验试剂 | 第25-26页 |
| 2.3 WO_3纳米片阵列薄膜的制备 | 第26-27页 |
| 2.4 染料敏化太阳能电池的组装 | 第27-28页 |
| 2.5 FTO导电玻璃的预处理 | 第28页 |
| 2.6 薄膜结构表征及性能测试 | 第28-30页 |
| 2.6.1 晶体结构表征 | 第28-29页 |
| 2.6.2 扫描电子显微镜表征 | 第29页 |
| 2.6.3 高分辨透射电镜表征 | 第29页 |
| 2.6.4 紫外-可见吸收光谱测试 | 第29页 |
| 2.6.5 光电化学性质测试 | 第29-30页 |
| 第三章 WO_3·H_2O纳米片阵列的制备及其生长机理研究 | 第30-47页 |
| 3.1 引言 | 第30页 |
| 3.2 WO_3·H_2O纳米片阵列的制备 | 第30-31页 |
| 3.3 WO_3·H_2O纳米片阵列的形貌和物相分析 | 第31-33页 |
| 3.4 水热条件对产品结构和形貌的影响 | 第33-42页 |
| 3.4.1 水热温度的影响 | 第33-35页 |
| 3.4.2 水热时间的影响 | 第35-37页 |
| 3.4.3 HCl添加量的影响 | 第37-38页 |
| 3.4.4 (NH_4)_2C_2O_4添加量的影响 | 第38-40页 |
| 3.4.5 添加剂种类的影响 | 第40-42页 |
| 3.5 WO_3·nH_2O纳米片阵列的生长机理分析 | 第42-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 WO_3纳米片阵列薄膜的光电化学性能研究 | 第47-62页 |
| 4.1 引言 | 第47-48页 |
| 4.2 实验部分 | 第48页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第48-60页 |
| 4.3.1 煅烧温度对薄膜的结构及光电性能的影响 | 第48-51页 |
| 4.3.2 水热温度对产品结构及光电性能的影响 | 第51-54页 |
| 4.3.3 水热时间对产品结构及光电性能的影响 | 第54-56页 |
| 4.3.4 籽晶层对WO_3纳米片薄膜结构及光电性能的影响 | 第56-59页 |
| 4.3.5 WO_3纳米片阵列薄膜电极稳定性测试 | 第59-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 WO_3纳米片阵列在染料敏化太阳能电池中的应用 | 第62-73页 |
| 5.1 引言 | 第62-63页 |
| 5.2 染料敏化太阳能电池的结构及工作原理 | 第63-64页 |
| 5.3 染料敏化太阳能电池的制备 | 第64-65页 |
| 5.3.1 WO_3纳米片阵列的制备及表面修饰 | 第64页 |
| 5.3.2 N719染料敏化WO_3纳米片阵列薄膜的制备 | 第64页 |
| 5.3.3 染料敏化太阳能电池的组装 | 第64-65页 |
| 5.4 染料敏化太阳能电池的性能测试 | 第65-66页 |
| 5.4.1 Ⅰ-Ⅴ特性曲线测试 | 第65页 |
| 5.4.2 入射单色光子-电子转化效率(IPCE)测试 | 第65-66页 |
| 5.5 结果与讨论 | 第66-72页 |
| 5.5.1 基于WO_3纳米片阵列DSSC的性能研究 | 第66-67页 |
| 5.5.2 TiCl_4处理对WO_3纳米片阵列结构及DSSC性能的影响 | 第67-72页 |
| 5.6 本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-85页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果目录 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
