雾化法沉积扩散源和辊式扩散的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-11页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9页 |
| 1.2 光伏发展现状和瓶颈 | 第9页 |
| 1.3 本论文的研究意义和主要内容 | 第9-11页 |
| 第2章 晶体硅太阳电池制备 | 第11-17页 |
| 2.1 太阳电池原理 | 第11页 |
| 2.2 晶体硅太阳电池制备工艺 | 第11-17页 |
| 2.2.1 晶硅制绒 | 第12-13页 |
| 2.2.2 扩散工艺 | 第13-14页 |
| 2.2.3 刻蚀 | 第14-15页 |
| 2.2.4 减反层沉积 | 第15-16页 |
| 2.2.5 丝网印刷与烧结 | 第16-17页 |
| 第3章 表征方法 | 第17-24页 |
| 3.1 少子寿命测试 | 第17-18页 |
| 3.2 电子扫描显微镜（SEM） | 第18-19页 |
| 3.3 ECV测试 | 第19页 |
| 3.4 四探针方阻测试 | 第19-20页 |
| 3.5 I-V测试 | 第20-21页 |
| 3.6 QE测试 | 第21-22页 |
| 3.7 EL测试 | 第22-24页 |
| 第4章 扩散原理和理论模拟分析 | 第24-31页 |
| 4.1 扩散原理 | 第24-26页 |
| 4.2 扩散对电池性能影响的理论模拟 | 第26-30页 |
| 4.2.1 PC1D介绍 | 第26-27页 |
| 4.2.2 模拟参数的设定 | 第27页 |
| 4.2.3 模拟结果与分析 | 第27-30页 |
| 4.3 本章小结 | 第30-31页 |
| 第5章 辊式扩散制备晶硅电池 | 第31-47页 |
| 5.1 水平连续扩散的发展现状 | 第31-32页 |
| 5.2 辊式扩散设备介绍 | 第32-33页 |
| 5.3 辊式扩散制备电池的研究 | 第33-46页 |
| 5.3.1 扩散源涂布 | 第33-37页 |
| 5.3.2 扩散工艺优化（管式扩散中的再分布） | 第37-39页 |
| 5.3.3“死区”的发现 | 第39-41页 |
| 5.3.4“死区”去除 | 第41-44页 |
| 5.3.5 化学腐蚀工艺优化 | 第44-45页 |
| 5.3.6 电池性能测试 | 第45-46页 |
| 5.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第6章 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 攻读学位期间取得的科研成果 | 第53页 |
