TiO2复合纳米膜电场条件下抗菌性能研究
| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 半导体材料与抗菌 | 第8-12页 |
| 1.1.1 半导体的光催化抗菌 | 第8-11页 |
| 1.1.2 抗菌机理 | 第11-12页 |
| 1.2 TiO_2的改性与抗菌性能 | 第12-14页 |
| 1.2.1 TiO_2的结构与菌性能 | 第12-13页 |
| 1.2.2 TiO_2材料的改性 | 第13-14页 |
| 1.3 TiO_2复合纳米膜抗菌及研究进展 | 第14-19页 |
| 1.3.1 In2O3纳米材料 | 第15-16页 |
| 1.3.2 抗菌材料的研究进展 | 第16-19页 |
| 1.4 论文研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 外加电场对TiO_2复合纳米膜的影响 | 第20-28页 |
| 2.1 TiO_2复合纳米膜 | 第20-27页 |
| 2.1.1 TiO_2复合纳米膜对抗菌性能的影响 | 第20-22页 |
| 2.1.2 内建电场的改性 | 第22-23页 |
| 2.1.3 电场的施加对空间电荷区影响 | 第23-24页 |
| 2.1.4 外加电场对抗菌性能的改善 | 第24-27页 |
| 2.2 本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 TiO_2复合纳米膜制备与表征 | 第28-42页 |
| 3.1 TiO_2薄膜制备与表征 | 第28-34页 |
| 3.1.1 TiO_2薄膜的制备 | 第28-31页 |
| 3.1.2 TiO_2薄膜的表征 | 第31-34页 |
| 3.2 TiO_2复合纳米薄膜制备与表征 | 第34-40页 |
| 3.2.1 TiO_2复合纳米膜的制备 | 第35-38页 |
| 3.2.2 TiO_2复合纳米膜的表征 | 第38-40页 |
| 3.3 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 薄膜抗菌性能测试 | 第42-55页 |
| 4.1 抗菌实验 | 第42-47页 |
| 4.1.1 菌种与培养基的选取 | 第43页 |
| 4.1.2 培育菌落的材料及设备 | 第43-44页 |
| 4.1.3 抗菌效果的计算 | 第44-46页 |
| 4.1.4 抗菌实验中外加电压的实现 | 第46-47页 |
| 4.2 抗菌性能对比测试 | 第47-53页 |
| 4.2.1 单层TiO_2薄膜抗菌性能测试 | 第47-49页 |
| 4.2.2 TiO_2复合纳米膜抗菌性能测试 | 第49-51页 |
| 4.2.3 外加电场对TiO_2纳米复合膜的影响 | 第51-53页 |
| 4.3 本章小结 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 附录1 单层膜杀菌测试数据 | 第62-63页 |
| 附录2 复合纳米膜杀菌测试数据 | 第63-64页 |
| 附录3 外加电压杀菌测试数据 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
