气液两相介质电火花微小孔加工工艺及其伺服策略研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-20页 |
1.1 课题的来源及研究的背景和意义 | 第9页 |
1.1.1 课题的来源 | 第9页 |
1.1.2 课题研究的背景与意义 | 第9页 |
1.2 电火花加工国内外研究现状 | 第9-18页 |
1.2.1 液中电火花微小孔加工国内外研究现状 | 第10-12页 |
1.2.2 气中电火花微小孔加工国内外研究现状 | 第12-14页 |
1.2.3 气液混合电火花加工国内外研究现状 | 第14-16页 |
1.2.4 伺服控制策略的研究现状 | 第16-18页 |
1.3 国内外文献综述的简析 | 第18页 |
1.4 课题主要研究内容 | 第18-20页 |
第2章 气液两相介质电火花加工机理分析及装置设计 | 第20-34页 |
2.1 气液两相介质电火花加工机理分析 | 第20-24页 |
2.1.1 气体和液体介质的击穿 | 第20-22页 |
2.1.2 气液两相介质的击穿 | 第22-24页 |
2.2 气液两相介质电火花微小孔加工装置的搭建 | 第24-28页 |
2.2.1 加工平台的搭建 | 第25-26页 |
2.2.2 工作介质供给系统的搭建 | 第26-28页 |
2.3 气液两相介质放电间隙流场仿真 | 第28-33页 |
2.3.1 放电间隙建模 | 第28-30页 |
2.3.2 离散相运动模型 | 第30-31页 |
2.3.3 放电间隙的流场分布 | 第31-33页 |
2.4 本章小结 | 第33-34页 |
第3章 气液两相介质电火花微小孔加工工艺研究 | 第34-48页 |
3.1 实验条件 | 第34-35页 |
3.2 电参数对加工影响工艺实验 | 第35-46页 |
3.2.1 电容对微小孔加工的影响 | 第35-38页 |
3.2.2 充电电流对微小孔加工的影响 | 第38-39页 |
3.2.3 伺服参考电压对微小孔加工的影响 | 第39-41页 |
3.2.4 正交试验分析 | 第41-45页 |
3.2.5 不同介质中电极分析 | 第45-46页 |
3.3 微小孔深度对加工影响工艺实验 | 第46-47页 |
3.4 本章小结 | 第47-48页 |
第4章 气液两相介质伺服策略研究 | 第48-60页 |
4.1 PID控制原理 | 第48-49页 |
4.2 PID控制系统的调试 | 第49-53页 |
4.2.1 调试系统的硬件结构 | 第49-50页 |
4.2.2 PID控制系统的程序总体流程设计 | 第50-51页 |
4.2.3 PID控制验证工艺实验 | 第51页 |
4.2.4 PID控制系统的移植 | 第51-53页 |
4.3 模糊自适应PID控制器基本原理 | 第53页 |
4.4 模糊PID伺服控制器设计 | 第53-58页 |
4.4.1 模糊控制器结构选择 | 第54页 |
4.4.2 模糊PID参数自整定原则 | 第54页 |
4.4.3 隶属度函数的确定 | 第54-55页 |
4.4.4 模糊控制规则设计 | 第55-56页 |
4.4.5 模糊控制器输出分析 | 第56-58页 |
4.4.6 模糊PID控制工艺验证实验 | 第58页 |
4.5 本章小结 | 第58-60页 |
结论 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-66页 |
致谢 | 第66页 |