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气液两相介质电火花微小孔加工工艺及其伺服策略研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-20页
    1.1 课题的来源及研究的背景和意义第9页
        1.1.1 课题的来源第9页
        1.1.2 课题研究的背景与意义第9页
    1.2 电火花加工国内外研究现状第9-18页
        1.2.1 液中电火花微小孔加工国内外研究现状第10-12页
        1.2.2 气中电火花微小孔加工国内外研究现状第12-14页
        1.2.3 气液混合电火花加工国内外研究现状第14-16页
        1.2.4 伺服控制策略的研究现状第16-18页
    1.3 国内外文献综述的简析第18页
    1.4 课题主要研究内容第18-20页
第2章 气液两相介质电火花加工机理分析及装置设计第20-34页
    2.1 气液两相介质电火花加工机理分析第20-24页
        2.1.1 气体和液体介质的击穿第20-22页
        2.1.2 气液两相介质的击穿第22-24页
    2.2 气液两相介质电火花微小孔加工装置的搭建第24-28页
        2.2.1 加工平台的搭建第25-26页
        2.2.2 工作介质供给系统的搭建第26-28页
    2.3 气液两相介质放电间隙流场仿真第28-33页
        2.3.1 放电间隙建模第28-30页
        2.3.2 离散相运动模型第30-31页
        2.3.3 放电间隙的流场分布第31-33页
    2.4 本章小结第33-34页
第3章 气液两相介质电火花微小孔加工工艺研究第34-48页
    3.1 实验条件第34-35页
    3.2 电参数对加工影响工艺实验第35-46页
        3.2.1 电容对微小孔加工的影响第35-38页
        3.2.2 充电电流对微小孔加工的影响第38-39页
        3.2.3 伺服参考电压对微小孔加工的影响第39-41页
        3.2.4 正交试验分析第41-45页
        3.2.5 不同介质中电极分析第45-46页
    3.3 微小孔深度对加工影响工艺实验第46-47页
    3.4 本章小结第47-48页
第4章 气液两相介质伺服策略研究第48-60页
    4.1 PID控制原理第48-49页
    4.2 PID控制系统的调试第49-53页
        4.2.1 调试系统的硬件结构第49-50页
        4.2.2 PID控制系统的程序总体流程设计第50-51页
        4.2.3 PID控制验证工艺实验第51页
        4.2.4 PID控制系统的移植第51-53页
    4.3 模糊自适应PID控制器基本原理第53页
    4.4 模糊PID伺服控制器设计第53-58页
        4.4.1 模糊控制器结构选择第54页
        4.4.2 模糊PID参数自整定原则第54页
        4.4.3 隶属度函数的确定第54-55页
        4.4.4 模糊控制规则设计第55-56页
        4.4.5 模糊控制器输出分析第56-58页
        4.4.6 模糊PID控制工艺验证实验第58页
    4.5 本章小结第58-60页
结论第60-61页
参考文献第61-66页
致谢第66页

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