| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-32页 |
| 1.1 聚合物中的相与相转变 | 第11-13页 |
| 1.2 聚合物相分离 | 第13-16页 |
| 1.3 嵌段共聚物的微相分离 | 第16-26页 |
| 1.3.1 嵌段共聚物薄膜中垂直取向相结构的调控 | 第19-26页 |
| 1.3.1.1 基板改性方法 | 第20-23页 |
| 1.3.1.2 基板粗糙度 | 第23页 |
| 1.3.1.3 溶剂场 | 第23-25页 |
| 1.3.1.4 电场 | 第25页 |
| 1.3.1.5 结晶性溶剂诱导嵌段共聚物微相结构的垂直取向 | 第25-26页 |
| 1.4 嵌段共聚物薄膜中垂直取向结构的应用 | 第26-29页 |
| 1.4.1 有序排列的纳米点和纳米柱的制备 | 第26-28页 |
| 1.4.2 生物过滤膜 | 第28-29页 |
| 1.5 本论文的选题意义、内容及创新之处 | 第29-32页 |
| 1.5.1 本论文的选题意义 | 第29-30页 |
| 1.5.2 本论文的研究内容 | 第30页 |
| 1.5.3 本课题研究的创新点 | 第30-32页 |
| 第二章 实验部分 | 第32-41页 |
| 2.1 实验样品及试剂 | 第32-34页 |
| 2.1.1 实验样品 | 第32-33页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第33-34页 |
| 2.2 实验仪器 | 第34-35页 |
| 2.3 嵌段共聚物薄膜中相结构的调控 | 第35-38页 |
| 2.3.1 基板清洗 | 第35-36页 |
| 2.3.1.1 硅片的清洗 | 第35页 |
| 2.3.1.2 导电玻璃的清洗 | 第35-36页 |
| 2.3.2 无规共聚物的真空热处理 | 第36页 |
| 2.3.3 基板改性 | 第36页 |
| 2.3.3.1 硅片的改性 | 第36页 |
| 2.3.3.2 ITO基板改性 | 第36页 |
| 2.3.4 嵌段共聚物薄膜溶剂蒸汽压退火 | 第36-37页 |
| 2.3.5 嵌段共聚物薄膜热退火 | 第37页 |
| 2.3.6 原位液位下降调控嵌段共聚物薄膜中的垂直相结构 | 第37-38页 |
| 2.4 嵌段共聚物薄膜的刻蚀 | 第38页 |
| 2.5 二氧化钛的制备 | 第38页 |
| 2.6 具有有序纳米孔结构的TiO_2薄膜的制备 | 第38-39页 |
| 2.7 实验表征 | 第39-41页 |
| 2.7.1 X射线衍射分析 | 第39页 |
| 2.7.2 傅立叶变换红外光谱分析 | 第39页 |
| 2.7.3 嵌段共聚物薄膜的透射电子显微镜分析 | 第39-40页 |
| 2.7.4 嵌段共聚物薄膜的原子力显微镜分析 | 第40页 |
| 2.7.5 PS模板和TiO_2薄膜形貌分析 | 第40-41页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第41-64页 |
| 3.1 PS-b-PMMA薄膜中相结构垂直取向的研究 | 第41-60页 |
| 3.1.1 无规共聚物红外光谱分析 | 第41-42页 |
| 3.1.2 溶剂蒸汽作用下PS-b-PMMA薄膜中相结构垂直取向的影响因素 | 第42-47页 |
| 3.1.2.1 无规共聚物的组成 | 第42-44页 |
| 3.1.2.2 嵌段共聚物聚合度及PG厚度 | 第44-46页 |
| 3.1.2.3 嵌段共聚物薄膜厚度 | 第46-47页 |
| 3.1.3 热退火时的PS-b-PMMA薄膜中相结构垂直取向的影响因素 | 第47-56页 |
| 3.1.3.1 无规共聚物 | 第48-50页 |
| 3.1.3.2 嵌段共聚物聚合度 | 第50-52页 |
| 3.1.3.3 改性基板的后处理 | 第52-54页 |
| 3.1.3.4 嵌段共聚物薄膜厚度 | 第54-56页 |
| 3.1.4 理论分析 | 第56-58页 |
| 3.1.5 原位液位下降法的探索 | 第58-60页 |
| 3.2 具有规整结构的PS模板形貌的表征 | 第60-61页 |
| 3.3 二氧化钛有序纳米孔薄膜的表征 | 第61-63页 |
| 3.3.1 二氧化钛的X射线衍射分析 | 第61-62页 |
| 3.3.2 二氧化钛(TiO_2)有序纳米孔薄膜 | 第62-63页 |
| 3.4 今后工作展望 | 第63-64页 |
| 第四章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 附录 攻读硕士期间已发表文章和会议论文 | 第73页 |
