前言 | 第16-17页 |
绪论 | 第17-19页 |
第一章 文献综述 | 第19-31页 |
1.1 环境对荧光探针光物理、光化学特征的影响 | 第19-21页 |
1.1.1 溶剂弛豫效应的影响 | 第19-20页 |
1.1.2 溶剂极性影响 | 第20页 |
1.1.3 扭曲的分子内电荷转移态(TICT)的影响 | 第20页 |
1.1.4 Ham效应的影响 | 第20-21页 |
1.2 4-AP类化合物作为荧光探针的应用 | 第21-30页 |
1.2.1 作为溶剂极性的探针 | 第21-22页 |
1.2.2 在主-客体化学中对环糊精的研究 | 第22-23页 |
1.2.3 用于胶束的研究 | 第23-25页 |
1.2.3.1 用于胶束CMC的测定 | 第23-24页 |
1.2.3.2 用于胶束极性特征的测定 | 第24-25页 |
1.2.4 作为过渡金属离子荧光探针 | 第25-26页 |
1.2.5 对分子集聚及分子自卷的研究 | 第26-27页 |
1.2.5.1 对分子自卷的研究 | 第26-27页 |
1.2.5.2 对分子集聚的研究 | 第27页 |
1.2.6 作为光电开关 | 第27-28页 |
1.2.7 用于蛋白质探针 | 第28-29页 |
1.2.8 对相转移催化剂的研究 | 第29页 |
1.2.9 在溶解动力学研究中的应用 | 第29-30页 |
1.2.9.1 超分子自组装体系中溶解动力学研究 | 第29-30页 |
1.2.9.2 对离子液体溶解动力学的研究 | 第30页 |
1.3 展望 | 第30-31页 |
第二章 实验方案设计 | 第31-33页 |
第三章 实验部分 | 第33-48页 |
3.1 主要原料、试剂 | 第33-34页 |
3.2 实验分析方法及仪器 | 第34页 |
3.3 实验操作 | 第34-42页 |
3.3.1 N-取代-4-硝基-邻苯二甲酰亚胺的合成 | 第34-36页 |
3.3.2 N-取代-4-氨基-邻苯二甲酰亚胺的合成 | 第36-37页 |
3.3.3 (N-取代-邻苯二甲酰亚胺-4-)-胺基甲酸乙酯的合成 | 第37-39页 |
3.3.4 (N-取代-邻苯二甲酰亚胺-4-)-胺基马来酰酸的合成 | 第39-40页 |
3.3.5 (N-取代-邻苯二甲酰亚胺-4-)-马来酰亚胺的合成 | 第40-42页 |
3.4 探针分子的单晶X-衍射分析 | 第42-46页 |
3.4.1 (N-丁基-邻苯二甲酰亚胺-4-)-氨基甲酸乙酯的X衍射分析 | 第42-44页 |
3.4.1.1 晶体结构的测定 | 第42-43页 |
3.4.1.2 结构描述 | 第43-44页 |
3.4.2 (N-苄基-邻苯二甲酰亚胺-4-)-马来酰亚胺的X衍射分析 | 第44-46页 |
3.4.2.1 晶体结构的测定 | 第44-45页 |
3.4.2.2 结构描述 | 第45-46页 |
3.5 探针分子紫外光谱的测定 | 第46-48页 |
3.5.1 N-取代-4-胺基-邻苯二甲酰亚胺的紫外光谱 | 第46-47页 |
3.5.2 (N-取代-邻苯二甲酰亚胺-4-)-胺基甲酸乙酯的紫外光谱 | 第47页 |
3.5.3 (N-取代-邻苯二甲酰亚胺-4-)-马来酰亚胺的紫外光谱 | 第47-48页 |
第四章 结果与讨论 | 第48-59页 |
4.1 4-AP荧光探针的化学修饰 | 第48-51页 |
4.1.1 4-硝基邻苯二甲酰亚胺的N-取代反应 | 第48页 |
4.1.2 N-取代-4-硝基邻苯二甲酰亚胺还原反应 | 第48-49页 |
4.1.3 N-取代-4-胺基邻苯二甲酰亚胺的乙氧甲酰化反应 | 第49-50页 |
4.1.4 N-取代-4-胺基邻苯二甲酰亚胺的马来酰化反应 | 第50页 |
4.1.5 马来酰酸的脱水环合反应 | 第50-51页 |
4.2 红外及核磁谱分析 | 第51-56页 |
4.2.1 N-取代-4-硝基-邻苯二甲酰亚胺的结构分析 | 第52页 |
4.2.2 N-取代-4-胺基-邻苯二甲酰亚胺的结构分析 | 第52-53页 |
4.2.3 (N-取代-邻苯二甲酰亚胺-4-)-胺基甲酸乙酯的结构分析 | 第53-54页 |
4.2.4 (N-取代-邻苯二甲酰亚胺-4-)-胺基马来酰酸的结构分析 | 第54-55页 |
4.2.5 (N-取代-邻苯二甲酰亚胺-4-)-马来酰亚胺的结构分析 | 第55-56页 |
4.3 探针分子单晶结构分析 | 第56-57页 |
4.3.1 (N-丁基-邻苯二甲酰亚胺-4-)-胺基甲酸乙酯3c的结构分析 | 第56-57页 |
4.3.2 (N-苄基-邻苯二甲酰亚胺-4-)-马来酰亚胺5f的单晶结构分析 | 第57页 |
4.4 紫外光谱分析 | 第57-59页 |
结论 | 第59-60页 |
第一章 绪论 | 第60-71页 |
1.1 研究背景 | 第60-61页 |
1.2 CH4与CO2直接合成含氧化合物研究的现状与存在的问题 | 第61-63页 |
1.2.1 CH4与CO2直接合成含氧化合物研究的意义与现状 | 第61-62页 |
1.2.1.1 CH4与CO2直接合成乙酸的现状 | 第61-62页 |
1.2.1.2 CH4与CO2直接合成其他含氧化合物的现状 | 第62页 |
1.2.2 CH4与CO2直接合成含氧化合物研究中存在的问题 | 第62-63页 |
1.3 半导体光催化反应的研究进展 | 第63-67页 |
1.3.1 半导体光催化的原理 | 第63-64页 |
1.3.2 光催化CO2还原的进展 | 第64-65页 |
1.3.2.1 TiO2催化CO2还原 | 第64页 |
1.3.2.2 Ⅱ-Ⅳ族半导体催化CO2还原 | 第64-65页 |
1.3.2.3 其他半导体催化CO2还原 | 第65页 |
1.3.3 光催化甲烷转化进展 | 第65-66页 |
1.3.4 半导体光催化性能的增强途径 | 第66-67页 |
1.3.4.1 提高催化剂的氧化、还原能力 | 第66页 |
1.3.4.2 减少电子与空穴的失活 | 第66-67页 |
1.4 目标反应的确定 | 第67-69页 |
1.4.1 目标反应热反应转化率的估算 | 第68-69页 |
1.5 本课题的研究目的、思路、内容与创新点 | 第69-71页 |
1.5.1 本课题的研究目的、思路 | 第69页 |
1.5.2 本课题的研究内容 | 第69-70页 |
1.5.3 本课题的创新之处 | 第70-71页 |
第二章 实验方法 | 第71-79页 |
2.1 半导体光催化剂的设计和制备 | 第71-73页 |
2.1.1 半导体光催化剂的设计 | 第71-72页 |
2.1.2 半导体光催化剂的制备 | 第72-73页 |
2.1.2.1 主要原料与试剂 | 第72-73页 |
2.1.2.2 半导体光催化剂的制备方法 | 第73页 |
2.2 半导体光催化剂的结构表征 | 第73-76页 |
2.2.1 TPR表征 | 第73-74页 |
2.2.2 BET比表面测定 | 第74页 |
2.2.3 XRD分析 | 第74页 |
2.2.4 固体红外光谱分析(IR) | 第74-75页 |
2.2.5 紫外-可见吸收(UV-vis)表征 | 第75页 |
2.2.6 Raman光谱分析 | 第75-76页 |
2.3 半导体光催化剂的化学吸附性能表征 | 第76-77页 |
2.3.1 半导体光催化剂化学吸附-红外光谱分析 | 第76页 |
2.3.2 程序升温脱附-质谱(TPD-MS)实验 | 第76-77页 |
2.4 半导体催化反应性能的评价 | 第77-79页 |
2.4.1 光促表面催化反应-色谱(PSSR-GC)实验 | 第77-79页 |
第三章 催化剂结构的表征 | 第79-88页 |
3.1 SiO2负载半导体的结构表征与结构模型的建立 | 第79-85页 |
3.1.1 SiO2负载半导体的结构表征 | 第79-84页 |
3.1.1.1 BET分析 | 第79页 |
3.1.1.2 TPR分析 | 第79-80页 |
3.1.1.3 IR分析 | 第80-81页 |
3.1.1.4 XRD分析 | 第81页 |
3.1.1.5 Raman光谱分析 | 第81-82页 |
3.1.1.6 UV-Vis光谱分析 | 第82-83页 |
3.1.1.7 TEM分析 | 第83-84页 |
3.1.2 SiO2负载半导体结构模型的建立 | 第84-85页 |
3.1.2.1 TiO2/SiO2的结构模型 | 第84页 |
3.1.2.2 CdS/SiO2的结构模型 | 第84页 |
3.1.2.3 CdS-TiO2/SiO2的结构模型 | 第84-85页 |
3.2 Cu、Ni-催化剂的结构表征与结构模型的建立 | 第85-87页 |
3.2.1 Cu、Ni-催化剂的结构表征 | 第85-87页 |
3.2.1.1 BET分析 | 第85页 |
3.2.1.2 TPR分析 | 第85-87页 |
3.2.1.3 IR、XRD、Raman、UV-Vis分析 | 第87页 |
3.2.2 Cu、Ni-催化剂结构模型的建立 | 第87页 |
3.3 小结 | 第87-88页 |
第四章 催化剂的吸附性能 | 第88-94页 |
4.1 CH4、CO2在催化剂上化学吸附IR研究 | 第88-91页 |
4.1.1 CH4在催化剂上的吸附 | 第88-89页 |
4.1.2 CO2在催化剂上的吸附 | 第89-90页 |
4.1.3 CH4、CO2在催化剂上的共吸附 | 第90-91页 |
4.2 CH4、CO2在催化剂上化学吸附TPD-MS研究 | 第91-92页 |
4.2.1 CH4在催化剂上化学吸附TPD-MS研究 | 第91-92页 |
4.2.2 CO2在催化剂上化学吸附TPD-MS研究 | 第92页 |
4.3 CH4、CO2在催化剂上的吸附模型 | 第92-93页 |
4.3.1 CH4在催化剂上吸附模型 | 第92-93页 |
4.3.2 CO2在催化剂上的吸附模型 | 第93页 |
4.4 小结 | 第93-94页 |
第五章 复合半导体催化剂的光催化反应性能 | 第94-102页 |
5.1 间歇光促表面反应-色谱(PSSR-GC)实验 | 第94-98页 |
5.1.1 间歇光促表面反应-色谱(PSSR-GC)实验结果 | 第94-95页 |
5.1.2 反应条件对间歇光反应性能的影响 | 第95-98页 |
5.1.2.1 反应温度的影响 | 第95-96页 |
5.1.2.2 反应时间的影响 | 第96页 |
5.1.2.3 反应物配比的影响 | 第96页 |
5.1.2.4 添加第三组分的影响 | 第96-98页 |
5.2 连续流光促表面反应-色谱(PSSR-GC)实验 | 第98-100页 |
5.2.1 连续流光促表面反应-色谱(PSSR-GC)实验结果 | 第98页 |
5.2.2 反应条件对连续流光反应性能的影响 | 第98-100页 |
5.2.2.1 反应温度的影响 | 第99页 |
5.2.2.2 反应物配比的影响 | 第99页 |
5.2.2.3 空速的影响 | 第99-100页 |
5.3 催化剂的失活 | 第100-101页 |
5.4 小结 | 第101-102页 |
第六章 反应机理分析和规律总结 | 第102-109页 |
6.1 复合半导体的光激发和电荷转移过程 | 第102页 |
6.2 光催化CH4、CO2直接合成含氧化合物的反应机理分析 | 第102-105页 |
6.2.1 反应的步骤 | 第103页 |
6.2.1.1 表面自由基反应的步骤 | 第103页 |
6.2.1.2 气相自由基反应的步骤 | 第103页 |
6.2.2 PSSR中各产物的生成机理 | 第103-105页 |
6.2.2.1 乙烷生成机理 | 第104页 |
6.2.2.2 丙酮生成机理 | 第104-105页 |
6.2.2.3 乙酸、甲酸、CO生成机理 | 第105页 |
6.3 PSSR性能影响因素分析 | 第105-107页 |
6.3.1 载体效应 | 第106页 |
6.3.2 复合结构对PSSR效能的影响 | 第106页 |
6.3.3 表面金属在PSSR过程中的作用 | 第106-107页 |
6.3.4 热-表面-光协同效应 | 第107页 |
6.4 今后工作的设想 | 第107-108页 |
6.5 小结 | 第108-109页 |
结论 | 第109-111页 |
参考文献 | 第111-122页 |
在学期间发表论文和参加科研情况 | 第122-124页 |
致 谢 | 第124页 |