摘要 | 第9-10页 |
ABSTRACT | 第10-11页 |
第一章 绪论 | 第12-19页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 多铁材料历史回顾 | 第13-14页 |
1.3 国内外研究动态及存在的问题 | 第14-17页 |
1.3.1 单相多铁材料 | 第14-15页 |
1.3.2 多铁性复合材料 | 第15-17页 |
1.4 本文主要研究内容 | 第17-19页 |
第二章 多铁材料综述 | 第19-31页 |
2.1 BiFeO_3结构 | 第20-21页 |
2.2 多铁材料的性质 | 第21-26页 |
2.2.1 铁电性 | 第21-22页 |
2.2.2 铁磁性 | 第22-24页 |
2.2.3 磁电耦合效应 | 第24-26页 |
2.3 BiFeO_3元素掺杂选择原理 | 第26-27页 |
2.4 薄膜制备及表征方法 | 第27-29页 |
2.5 本章小结 | 第29-31页 |
第三章 纯相的BiFeO_3薄膜溶胶凝胶法制备及表征 | 第31-42页 |
3.1 实验制备 | 第31-34页 |
3.1.1 实验药品 | 第31页 |
3.1.2 实验设备 | 第31-32页 |
3.1.3 前驱体合成工艺 | 第32页 |
3.1.4 旋涂甩膜工艺 | 第32-33页 |
3.1.5 退火工艺 | 第33-34页 |
3.2 样品表征 | 第34-38页 |
3.2.1 X射线衍射(XRD) | 第34-35页 |
3.2.2 铁电性测试 | 第35-36页 |
3.2.3 铁磁性测试 | 第36-38页 |
3.3 结果与讨论 | 第38-40页 |
3.3.1 晶体结构分析 | 第38-39页 |
3.3.2 电性能分析 | 第39-40页 |
3.3.3 磁性能分析 | 第40页 |
3.4 本章小结 | 第40-42页 |
第四章 BiFeO_3薄膜的A位和B位掺杂研究 | 第42-50页 |
4.1 实验制备 | 第42-45页 |
4.1.1 实验药品 | 第42页 |
4.1.2 实验设备 | 第42-43页 |
4.1.3 前驱体合成工艺 | 第43-44页 |
4.1.4 旋涂甩膜工艺 | 第44-45页 |
4.1.5 退火工艺 | 第45页 |
4.2 结果与讨论 | 第45-48页 |
4.2.1 晶体结构分析 | 第45-47页 |
4.2.2 磁性能分析 | 第47-48页 |
4.3 本章小结 | 第48-50页 |
第五章 BiFeO_3薄膜忆阻方面的探索 | 第50-61页 |
5.1 阻变原理 | 第51-54页 |
5.1.1 阻变行为分类 | 第51-52页 |
5.1.2 铁电隧穿效应 | 第52-54页 |
5.2 样品的制备与分析方法 | 第54-58页 |
5.2.1 实验设备 | 第54-56页 |
5.2.2 工艺流程 | 第56-57页 |
5.2.3 分析方法 | 第57-58页 |
5.3 结果与讨论 | 第58-60页 |
5.4 本章小结 | 第60-61页 |
第六章 结论与展望 | 第61-63页 |
6.1 结论 | 第61-62页 |
6.2 展望 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-67页 |
作者在学期间取得的学术成果 | 第67页 |