摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-32页 |
·纳米材料简介 | 第11-14页 |
·空心微/纳米结构制备方法及机理 | 第14-27页 |
·模板法 | 第15-18页 |
·牺牲模板法 | 第18-22页 |
·无模板法 | 第22-23页 |
·定向粘贴 | 第23-26页 |
·介晶组合 | 第26-27页 |
·二硫化钼纳米材料研究现状 | 第27-30页 |
·二硫化钼各种纳米结构制备 | 第28-30页 |
·二硫化钼各种性能研究 | 第30页 |
·本论文的研究内容及意义 | 第30-32页 |
第二章 二硫化钼分级多面体结构的制备与光催化性能 | 第32-48页 |
·引言 | 第32-33页 |
·二硫化钼多面体结构的制备 | 第33-35页 |
·化学原料与仪器 | 第33页 |
·制备与表征方法 | 第33-34页 |
·光催化实验 | 第34-35页 |
·结果与讨论 | 第35-46页 |
·前驱体的结构,成分和形貌特征 | 第35-37页 |
·二硫化钼样品形貌分析 | 第37-43页 |
·形成机理探讨 | 第43-44页 |
·光催化分析 | 第44-46页 |
·本章小结 | 第46-48页 |
第三章 二硫化钼分级空心球的制备、改性与光催化性能 | 第48-63页 |
·引言 | 第48-49页 |
·二硫化钼空心球的制备 | 第49-50页 |
·化学原料与仪器 | 第49-50页 |
·制备与表征方法 | 第50页 |
·光催化性能测试 | 第50页 |
·结果与讨论 | 第50-56页 |
·结构分析 | 第50-51页 |
·SEM 形貌分析 | 第51-54页 |
·FTIR 及 Raman 散射分析 | 第54-55页 |
·XPS 分析 | 第55-56页 |
·光催化分析 | 第56-60页 |
·形成机理分析 | 第60-62页 |
·二硫化钼空心球形成机理分析 | 第60-61页 |
·二硫化钼表面改性机理分析 | 第61-62页 |
·本章小结 | 第62-63页 |
第四章 三氧化钼纳米片的制备与表征 | 第63-70页 |
·引言 | 第63-64页 |
·三氧化钼纳米结构的制备 | 第64-65页 |
·实验药品及设备 | 第64页 |
·样品的制备 | 第64页 |
·样品的表征 | 第64-65页 |
·结果与讨论 | 第65-68页 |
·结构和形貌分析 | 第65-66页 |
·Raman 光谱及 XPS 分析 | 第66-67页 |
·FTIR 分析 | 第67-68页 |
·形成机理分析 | 第68页 |
·光催化性能分析 | 第68-69页 |
·本章小结 | 第69-70页 |
总结 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-84页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第84-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
附件 | 第86页 |