| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 引言 | 第11-14页 |
| 1.1.1 稀土永磁材料 | 第11-12页 |
| 1.1.2 NdFe B永磁材料 | 第12-14页 |
| 1.2 烧结NdFe B永磁材料的腐蚀行为 | 第14-17页 |
| 1.3 NdFe B永磁材料的常用防护方法 | 第17-22页 |
| 1.3.1 合金化法 | 第18-19页 |
| 1.3.2 镀层防护技术 | 第19-22页 |
| 1.4 物理气相沉积技术制备NdFeB磁体表面涂层 | 第22-27页 |
| 1.4.1 真空蒸发镀 | 第22-23页 |
| 1.4.2 离子镀 | 第23-24页 |
| 1.4.3 磁控溅射技术 | 第24-27页 |
| 1.5 本论文的选题意义及主要研究内容 | 第27-29页 |
| 1.5.1 本论文的选题意义 | 第27页 |
| 1.5.2 本论文的主要研究内容及技术路线 | 第27-29页 |
| 第二章 薄膜制备与测试方法 | 第29-36页 |
| 2.1 薄膜制备仪器、材料与试剂 | 第29-30页 |
| 2.2 薄膜制备方法 | 第30-31页 |
| 2.3 薄膜性能测试方法 | 第31-36页 |
| 2.3.1 薄膜微观组织结构分析（SEM） | 第31页 |
| 2.3.2 薄膜成分分析（EDS） | 第31-32页 |
| 2.3.3 薄膜相结构分析（XRD） | 第32页 |
| 2.3.4 薄膜电化学性能测试 | 第32-33页 |
| 2.3.5 薄膜电化学交流阻抗测试（EIS） | 第33页 |
| 2.3.6 中性盐雾试验（NSS） | 第33-34页 |
| 2.3.7 磁性能测试（PPMS） | 第34-36页 |
| 第三章 NdFeB表面沉积Al膜的研究 | 第36-48页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 溅射功率对NdFeB磁体表面沉积Al膜的影响 | 第36-42页 |
| 3.2.1 沉积参数 | 第36页 |
| 3.2.2 微观结构分析 | 第36-39页 |
| 3.2.3 电化学性能 | 第39-41页 |
| 3.2.4 中性盐雾试验 | 第41-42页 |
| 3.3 偏压对NdFeB磁体表面沉积Al膜的影响 | 第42-46页 |
| 3.3.1 沉积参数 | 第42-43页 |
| 3.3.2 微观结构分析 | 第43-45页 |
| 3.3.3 电化学性能 | 第45-46页 |
| 3.3.4 中性盐雾试验 | 第46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 NdFeB磁体表面沉积Ni膜的研究 | 第48-65页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 基底对Ni膜结构的影响 | 第48-51页 |
| 4.3 溅射功率对NdFeB磁体表面沉积Ni膜的影响 | 第51-56页 |
| 4.3.1 沉积参数 | 第51-52页 |
| 4.3.2 微观结构分析 | 第52-54页 |
| 4.3.3 电化学性能 | 第54-56页 |
| 4.3.4 中性盐雾试验 | 第56页 |
| 4.4 偏压对NdFeB磁体表面沉积Ni膜的影响 | 第56-61页 |
| 4.4.1 沉积参数 | 第57页 |
| 4.4.2 微观结构分析 | 第57-59页 |
| 4.4.3 电化学性能 | 第59-60页 |
| 4.4.4 中性盐雾试验 | 第60-61页 |
| 4.5 NdFe B磁体表面沉积Ni膜的抗氧化性能研究 | 第61-63页 |
| 4.6 本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 NdFeB表面沉积Al/Ni复合多层膜的研究 | 第65-86页 |
| 5.1 引言 | 第65页 |
| 5.2 膜层数与工艺对NdFeB磁体沉积多层膜的影响 | 第65-84页 |
| 5.2.1 沉积参数 | 第66-67页 |
| 5.2.2 复合多层膜的微观组织与成分分析 | 第67-74页 |
| 5.2.3 溅射沉积的绕射性研究 | 第74-76页 |
| 5.2.5 多层膜性能测试及分析 | 第76-84页 |
| 5.3 本章小结 | 第84-86页 |
| 结论 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-94页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第94-95页 |
| 致谢 | 第95-96页 |
| 附件 | 第96页 |
