| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 光学成像元件概述 | 第9-10页 |
| 1.2 微光学成像元件概述 | 第10-15页 |
| 1.2.1 二元衍射元件原理 | 第10-12页 |
| 1.2.2 连续浮雕微透镜阵列原理 | 第12-15页 |
| 1.3 亚波长多孔结构成像元件概述 | 第15-17页 |
| 1.3.1 亚波长多孔结构成像元件关键技术研究意义 | 第15-17页 |
| 1.3.2 亚波长多孔结构成像元件研究现状与发展态势 | 第17页 |
| 1.4 本论文的主要工作和结构安排 | 第17-19页 |
| 第二章 亚波长多孔结构成像元件理论 | 第19-38页 |
| 2.1 金属波导的电磁理论 | 第19-20页 |
| 2.2 电磁波传输中的趋肤效应 | 第20页 |
| 2.3 电磁波的传输模式 | 第20-22页 |
| 2.4 亚波长多孔结构光学调制特性 | 第22-24页 |
| 2.5 亚波长微纳结构透镜优化设计与特性分析 | 第24-37页 |
| 2.5.1 亚波长多孔微纳结构透镜优化设计 | 第24-25页 |
| 2.5.2 亚波长多孔金属结构孔填充介质的光学特性 | 第25-27页 |
| 2.5.3 亚波长金属结构耦合效应 | 第27-29页 |
| 2.5.4 亚波长微纳结构透镜偏振特性 | 第29-30页 |
| 2.5.5 宽波段亚波长微纳结构透镜 | 第30-34页 |
| 2.5.5.1 亚波长结构成像元件色散系数计算 | 第31-33页 |
| 2.5.5.2 宽波段消色差结构型透镜的设计 | 第33-34页 |
| 2.5.6 计算不同入射波长时的近场及远场分布确定焦距 | 第34-37页 |
| 2.6 本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 亚波长多孔结构制作方案与误差分析 | 第38-47页 |
| 3.1 亚波长多孔结构成像元件结构设计 | 第38-41页 |
| 3.1.1 材料结构设计 | 第38-39页 |
| 3.1.2 微结构设计 | 第39-40页 |
| 3.1.3 微结构工艺设计 | 第40-41页 |
| 3.2 亚波长多孔结构成像元件误差分析 | 第41-46页 |
| 3.2.1 材料结构误差分析 | 第41-42页 |
| 3.2.2 光刻版误差分析 | 第42-43页 |
| 3.2.3 光刻结构成型误差分析 | 第43-44页 |
| 3.2.4 刻蚀传递误差分析 | 第44-45页 |
| 3.2.5 电镀膜层误差分析 | 第45-46页 |
| 3.3 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 亚波长多孔结构成像元件制备 | 第47-62页 |
| 4.1 新型人工结构材料的制备 | 第47-49页 |
| 4.2 光刻版图设计制作 | 第49-51页 |
| 4.3 刻蚀抗蚀层制备 | 第51-54页 |
| 4.3.1 铝膜沉积 | 第52页 |
| 4.3.2 光刻成型 | 第52-54页 |
| 4.4 刻蚀传递 | 第54-57页 |
| 4.5 电镀膜层制作 | 第57-58页 |
| 4.6 亚波长多孔结构成像元件测试 | 第58-61页 |
| 4.7 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 全文总结 | 第62-64页 |
| 5.1 本文的主要工作 | 第62-63页 |
| 5.2 下一步工作的展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
