| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第13-30页 |
| 1.1 纳米材料概述 | 第13-17页 |
| 1.1.1 纳米材料定义和分类 | 第13-14页 |
| 1.1.2 纳米材料的特性和应用 | 第14-17页 |
| 1.2 一维纳米材料 | 第17-21页 |
| 1.2.1 一维纳米材料的制备方法 | 第18-20页 |
| 1.2.2 一维纳米材料的表征方法 | 第20-21页 |
| 1.3 磁性/非磁性多层纳米线的应用 | 第21-22页 |
| 1.4 磁性/非磁性多层纳米线的制备和表征 | 第22-26页 |
| 1.4.1 磁性/非磁性多层纳米线的制备 | 第22-23页 |
| 1.4.2 磁性/非磁性多层纳米线的表征 | 第23-26页 |
| 1.5 磁性/非磁性多层纳米线阵列的研究现状 | 第26-27页 |
| 1.6 巨磁电阻效应 | 第27-28页 |
| 1.6.1 巨磁电阻效应的发现和产生机理 | 第27-28页 |
| 1.6.2 巨磁电阻材料和分类 | 第28页 |
| 1.7 硕士论文的主要工作 | 第28-30页 |
| 第二章 Cu/Ni多层纳米线的制备和表征 | 第30-45页 |
| 2.1 模板制备 | 第30-33页 |
| 2.1.1 聚碳酸酯薄膜辐照和紫外光敏化 | 第30-31页 |
| 2.1.2 聚碳酸酯模板蚀刻 | 第31-33页 |
| 2.2 纳米线的制备及表征 | 第33-45页 |
| 2.2.1 实验方法和电化学沉积原理 | 第33-34页 |
| 2.2.2 Cu、Ni单金属纳米线的制备与表征 | 第34-36页 |
| 2.2.3 Cu/Ni多层纳米线的制备 | 第36-38页 |
| 2.2.4 Cu/Ni多层纳米线的形貌表征 | 第38-40页 |
| 2.2.5 Cu/Ni多层纳米线的元素和成分分析 | 第40-45页 |
| 第三章 Cu/Ni多层纳米线的光学性质研究 | 第45-51页 |
| 3.1 引言 | 第45页 |
| 3.2 实验部分 | 第45-46页 |
| 3.3 Cu/Ni多层纳米线的光学性质分析 | 第46-51页 |
| 3.3.1 等离子体共振理论 | 第46-47页 |
| 3.3.2 光学性质影响因素 | 第47-51页 |
| 第四章 Cu/Ni多层纳米线的磁性能和GMR性能研究 | 第51-64页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 实验方法 | 第51-52页 |
| 4.3 磁性测量结果及讨论 | 第52-60页 |
| 4.3.1 磁学理论 | 第52-54页 |
| 4.3.2 磁性能的影响因素 | 第54-60页 |
| 4.4 GMR性能研究 | 第60-64页 |
| 4.4.1 Cu/Ni多层纳米线阵列的GMR效应测量 | 第61-64页 |
| 第五章 结论与展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-75页 |
| 作者简介及攻读硕士学位期间发表的论文 | 第75页 |