介质中球形颗粒辐射吸收及温度场分布
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 注释表 | 第12-14页 |
| 1 绪论 | 第14-20页 |
| 1.1 研究意义与背景 | 第14-15页 |
| 1.2 粒子辐射研究现状 | 第15-18页 |
| 1.2.1 真空中的Mie理论 | 第15-16页 |
| 1.2.2 吸收性介质中的Mie理论 | 第16-17页 |
| 1.2.3 非球形非均质粒子的辐射特性 | 第17-18页 |
| 1.3 本文研究内容 | 第18-20页 |
| 2 吸收性介质中单个颗粒的吸收分布 | 第20-40页 |
| 2.1 Mie散射理论 | 第20-22页 |
| 2.1.1 真空中散射公式简介 | 第20-21页 |
| 2.1.2 Mie散射算法及改进 | 第21-22页 |
| 2.2 颗粒内部吸收分布 | 第22-29页 |
| 2.2.1 吸收性介质中Mie散射公式 | 第22-23页 |
| 2.2.2 吸收分布建模 | 第23-24页 |
| 2.2.3 计算结果与影响因素分析 | 第24-29页 |
| 2.3 颗粒内部温度分布 | 第29-39页 |
| 2.3.1 温度场的控制方程 | 第30-31页 |
| 2.3.2 数值计算与离散 | 第31-33页 |
| 2.3.3 计算结果与影响因素分析 | 第33-39页 |
| 2.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 3 双颗粒耦合辐射吸收的模拟 | 第40-50页 |
| 3.1 表面等离子体激元 | 第40-41页 |
| 3.2 有限时域差分法 | 第41-42页 |
| 3.3 单个球形粒子辐射吸收FDTD建模 | 第42-45页 |
| 3.3.1 参数的设置 | 第42页 |
| 3.3.2 解析解与模拟结果的对比 | 第42-45页 |
| 3.4 双球颗粒耦合吸收分布 | 第45-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 4 颗粒复合介质的制备 | 第50-65页 |
| 4.1 磁控溅射镀膜 | 第50-51页 |
| 4.2 薄膜的镀制与退火 | 第51-54页 |
| 4.2.1 清洗基底材料 | 第51页 |
| 4.2.2 沉积Ag膜 | 第51-53页 |
| 4.2.3 退火处理 | 第53页 |
| 4.2.4 镀制非金属薄膜 | 第53-54页 |
| 4.3 透射率反射率的测量 | 第54-63页 |
| 4.3.1 实验重复性检验 | 第54-55页 |
| 4.3.2 银膜形貌的影响 | 第55-62页 |
| 4.3.3 非金属介质的影响 | 第62-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 5 总结与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 总结 | 第65-66页 |
| 5.2 展望 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
