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铜的防腐蚀技术:香料类绿色缓蚀剂及pH刺激响应型自修复涂层

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第1章 绪论第10-20页
    1.1 绿色缓蚀剂概述第10-14页
        1.1.1 植物提取物缓蚀剂第10-11页
        1.1.2 药物以及香料缓蚀剂第11-13页
        1.1.3 希夫碱类缓蚀剂第13页
        1.1.4 绿色缓蚀剂小结第13-14页
    1.2 智能响应型自修复涂层材料第14-20页
        1.2.1 基于分子键重排反应的自修复材料第14-15页
        1.2.2 基于纳米微胶囊的自修复材料第15-20页
第2章 两种噻唑类香料作为绿色缓蚀剂在中性Cl~-溶液中对铜的缓蚀作用对比研究第20-34页
    2.1 引言第20页
    2.2 实验方法第20-22页
        2.2.1 仪器及试剂第20-21页
        2.2.2 电化学测试第21页
        2.2.3 量子化学计算第21-22页
        2.2.4 电极表面表征第22页
    2.3 结果和讨论第22-33页
        2.3.1 电化学交流阻抗分析第22-25页
        2.3.2 动电位极化曲线分析第25-27页
        2.3.3 量子化学计算分析第27-30页
        2.3.4 电极表面的扫描电子显微镜分析第30-31页
        2.3.5 接触角分析第31-32页
        2.3.6 红外光谱分析第32-33页
    2.4 总结第33-34页
第3章 基于香料和药物的绿色缓蚀剂:利用香兰素与异烟肼合成的希夫碱在中性Cl~-溶液中对铜的缓蚀作用第34-50页
    3.1 引言第34-35页
    3.2 实验部分第35-36页
        3.2.1 希夫碱的合成第35页
        3.2.2 希夫碱的表征第35页
        3.2.3 缓蚀性能测试第35页
        3.2.4 电极形貌表征第35-36页
        3.2.5 分子结构的理论计算第36页
    3.3 结果和讨论第36-48页
        3.3.1 希夫碱IM的合成分析第36-37页
        3.3.2 动电位极化曲线分析第37-38页
        3.3.3 电化学阻抗谱分析第38-42页
        3.3.4 IM及两个原材料的缓蚀作用第42-46页
        3.3.5 SEM和EDS分析第46-47页
        3.3.6 IM及其在铜电极表面的红外谱图分析第47-48页
    3.4 总结第48-50页
第4章 pH响应型智能自修复涂层的研究第50-63页
    4.1 引言第50-51页
    4.2 实验方法第51-53页
        4.2.1 实验试剂和仪器第51页
        4.2.2 二氧化硅纳米微胶囊(NCs)的制备第51-52页
        4.2.3 微胶囊的控制释放性能测试第52页
        4.2.4 自修复涂层的制备第52页
        4.2.5 涂层的抗腐蚀性能测试第52-53页
        4.2.6 微胶囊以及涂层的表征第53页
    4.3 结果和讨论第53-62页
        4.3.1 二氧化硅和氧化锌纳米颗粒的合成分析第53-54页
        4.3.2 凝胶型修复剂的合成分析第54-57页
        4.3.3 微胶囊的组装及其控制释放性能测试第57-58页
        4.3.4 自修复涂层的表征和性能测试第58-62页
    4.4 总结第62-63页
第5章 结论与展望第63-64页
    5.1 绿色缓蚀剂小结和展望第63页
    5.2 刺激响应型智能自修复涂层小结和展望第63-64页
参考文献第64-74页
致谢第74-75页
硕士期间发表论文第75-76页

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