摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第1章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 绿色缓蚀剂概述 | 第10-14页 |
1.1.1 植物提取物缓蚀剂 | 第10-11页 |
1.1.2 药物以及香料缓蚀剂 | 第11-13页 |
1.1.3 希夫碱类缓蚀剂 | 第13页 |
1.1.4 绿色缓蚀剂小结 | 第13-14页 |
1.2 智能响应型自修复涂层材料 | 第14-20页 |
1.2.1 基于分子键重排反应的自修复材料 | 第14-15页 |
1.2.2 基于纳米微胶囊的自修复材料 | 第15-20页 |
第2章 两种噻唑类香料作为绿色缓蚀剂在中性Cl~-溶液中对铜的缓蚀作用对比研究 | 第20-34页 |
2.1 引言 | 第20页 |
2.2 实验方法 | 第20-22页 |
2.2.1 仪器及试剂 | 第20-21页 |
2.2.2 电化学测试 | 第21页 |
2.2.3 量子化学计算 | 第21-22页 |
2.2.4 电极表面表征 | 第22页 |
2.3 结果和讨论 | 第22-33页 |
2.3.1 电化学交流阻抗分析 | 第22-25页 |
2.3.2 动电位极化曲线分析 | 第25-27页 |
2.3.3 量子化学计算分析 | 第27-30页 |
2.3.4 电极表面的扫描电子显微镜分析 | 第30-31页 |
2.3.5 接触角分析 | 第31-32页 |
2.3.6 红外光谱分析 | 第32-33页 |
2.4 总结 | 第33-34页 |
第3章 基于香料和药物的绿色缓蚀剂:利用香兰素与异烟肼合成的希夫碱在中性Cl~-溶液中对铜的缓蚀作用 | 第34-50页 |
3.1 引言 | 第34-35页 |
3.2 实验部分 | 第35-36页 |
3.2.1 希夫碱的合成 | 第35页 |
3.2.2 希夫碱的表征 | 第35页 |
3.2.3 缓蚀性能测试 | 第35页 |
3.2.4 电极形貌表征 | 第35-36页 |
3.2.5 分子结构的理论计算 | 第36页 |
3.3 结果和讨论 | 第36-48页 |
3.3.1 希夫碱IM的合成分析 | 第36-37页 |
3.3.2 动电位极化曲线分析 | 第37-38页 |
3.3.3 电化学阻抗谱分析 | 第38-42页 |
3.3.4 IM及两个原材料的缓蚀作用 | 第42-46页 |
3.3.5 SEM和EDS分析 | 第46-47页 |
3.3.6 IM及其在铜电极表面的红外谱图分析 | 第47-48页 |
3.4 总结 | 第48-50页 |
第4章 pH响应型智能自修复涂层的研究 | 第50-63页 |
4.1 引言 | 第50-51页 |
4.2 实验方法 | 第51-53页 |
4.2.1 实验试剂和仪器 | 第51页 |
4.2.2 二氧化硅纳米微胶囊(NCs)的制备 | 第51-52页 |
4.2.3 微胶囊的控制释放性能测试 | 第52页 |
4.2.4 自修复涂层的制备 | 第52页 |
4.2.5 涂层的抗腐蚀性能测试 | 第52-53页 |
4.2.6 微胶囊以及涂层的表征 | 第53页 |
4.3 结果和讨论 | 第53-62页 |
4.3.1 二氧化硅和氧化锌纳米颗粒的合成分析 | 第53-54页 |
4.3.2 凝胶型修复剂的合成分析 | 第54-57页 |
4.3.3 微胶囊的组装及其控制释放性能测试 | 第57-58页 |
4.3.4 自修复涂层的表征和性能测试 | 第58-62页 |
4.4 总结 | 第62-63页 |
第5章 结论与展望 | 第63-64页 |
5.1 绿色缓蚀剂小结和展望 | 第63页 |
5.2 刺激响应型智能自修复涂层小结和展望 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
硕士期间发表论文 | 第75-76页 |