双阴极辉光离子渗氮工艺研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 选题背景 | 第9页 |
| 1.2 等离子体化学热处理技术 | 第9-12页 |
| 1.2.1 等离子基本概念 | 第9-10页 |
| 1.2.2 等离子体化学热处理基础 | 第10-12页 |
| 1.3 离子渗氮处理技术 | 第12-16页 |
| 1.3.1 辉光离子渗氮基础 | 第12-15页 |
| 1.3.2 离子氮化工艺原理 | 第15页 |
| 1.3.3 辉光离子渗氮的特点 | 第15-16页 |
| 1.4 渗氮反应机理 | 第16-18页 |
| 1.4.1 溅射和沉积理论 | 第16-17页 |
| 1.4.2 分子离子理论 | 第17页 |
| 1.4.3 中性氮原子理论 | 第17-18页 |
| 1.4.4 空位及空位梯度理论 | 第18页 |
| 1.5 离子渗氮技术发展现状 | 第18-20页 |
| 1.5.1 脉冲离子渗氮技术 | 第18页 |
| 1.5.2 活性屏离子渗氮技术 | 第18-19页 |
| 1.5.3 空心阴极辅助离子渗氮技术 | 第19-20页 |
| 1.5.4 全方位离子注入渗氮技术 | 第20页 |
| 1.6 本文研究意义、内容与技术路线 | 第20-22页 |
| 1.6.1 本文研究的意义 | 第20页 |
| 1.6.2 本文研究内容 | 第20-21页 |
| 1.6.3 技术路线 | 第21-22页 |
| 2 双阴辉光离子渗氮方法 | 第22-28页 |
| 2.1 试验材料 | 第22-23页 |
| 2.2 试验设备 | 第23-26页 |
| 2.3 试验方法 | 第26页 |
| 2.4 分析测试方法 | 第26-28页 |
| 3 双阴极辉光离子渗氮工艺探索 | 第28-34页 |
| 3.1 试验工艺 | 第28页 |
| 3.2 实验结果与分析 | 第28-30页 |
| 3.2.1 金相分析 | 第28-29页 |
| 3.2.2 XRD分析 | 第29-30页 |
| 3.3 分析讨论 | 第30-33页 |
| 3.3.1 活性氮原子的产生 | 第30-31页 |
| 3.3.2 介质与界面反应及氮的吸收过程 | 第31-32页 |
| 3.3.3 氮原子的扩散过程 | 第32-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 4 双阴极辉光离子渗氮的工艺研究 | 第34-57页 |
| 4.1 实验方案 | 第34-35页 |
| 4.2 实验结果与分析 | 第35-51页 |
| 4.2.1 渗氮温度对渗氮层的影响 | 第35-40页 |
| 4.2.2 渗氮时间对渗氮层的影响 | 第40-44页 |
| 4.2.3 炉内气压对渗氮层的影响 | 第44-48页 |
| 4.2.4 工作电压对渗氮层的影响 | 第48-51页 |
| 4.3 降低双阴极辉光离子渗氮中的边缘效应 | 第51-56页 |
| 4.3.1 降低阴极盘电压 | 第52-54页 |
| 4.3.2 延长氮化处理时间 | 第54-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及科研成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
