| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 稀磁半导体的发展 | 第10-12页 |
| 1.2 In_2O_3的基本性质 | 第12-13页 |
| 1.3 In_2O_3纳米结构概述 | 第13-15页 |
| 1.4 稀磁掺杂氧化铟的发展现状 | 第15-18页 |
| 1.5 稀磁半导体磁性产生机制研究现状 | 第18-20页 |
| 1.6 本文主要研究内容及章节安排 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-25页 |
| 第二章 In_2O_3纳米线的制备和表征方法 | 第25-32页 |
| 2.1 氧化铟基稀磁半导体制备工艺概述 | 第25-26页 |
| 2.2 氧化铟纳米线的化学气相沉积平台制备概述 | 第26-27页 |
| 2.3 Fe掺杂In_2O_3纳米线生长 | 第27-28页 |
| 2.4 Nd掺杂In_2O_3纳米线生长 | 第28-29页 |
| 2.5 样品表征设备 | 第29-31页 |
| 参考文献 | 第31-32页 |
| 第三章 Nd掺杂In_2O_3纳米线结构、成分及磁性研究 | 第32-44页 |
| 3.1 Nd掺杂In_2O_3纳米线形貌分析 | 第32-34页 |
| 3.2 Nd掺杂In_2O_3纳米线成分分析 | 第34-36页 |
| 3.3 Nd掺杂In_2O_3纳米线结构分析 | 第36-38页 |
| 3.4 Nd掺杂In_2O_3纳米线的磁学性质 | 第38-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 第四章 Fe掺杂In_2O_3纳米线结构、成分及磁性研究 | 第44-54页 |
| 4.1 Fe掺杂In_2O_3纳米线形貌分析 | 第44页 |
| 4.2 Fe掺杂In_2O_3纳米线成分结构分析 | 第44-48页 |
| 4.3 Fe掺杂In_2O_3纳米线电学测试 | 第48-50页 |
| 4.4 Fe掺杂In_2O_3纳米线磁学性质研究 | 第50-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第五章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 主要结论 | 第54-55页 |
| 5.2 研究展望 | 第55-56页 |
| 攻读硕士期间学术成果 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |