| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 热丝CVD沉积金刚石薄膜的研究概况 | 第11-18页 |
| 1.2.1 热丝 CVD 金刚石进展 | 第12-13页 |
| 1.2.2 基片的选择及预处理 | 第13-15页 |
| 1.2.3 形核 | 第15-16页 |
| 1.2.4 生长 | 第16-17页 |
| 1.2.5 关于生长方法的其他研究 | 第17-18页 |
| 1.3 热丝CVD金刚石涂层的表征 | 第18-24页 |
| 1.4 本文研究的目的意义及研究内容 | 第24-27页 |
| 第2章 氩气在HFCVD制备金刚石薄膜过程中的影响 | 第27-39页 |
| 2.1 引言 | 第27-28页 |
| 2.2 实验 | 第28-29页 |
| 2.2.1 实验试剂及设备 | 第28页 |
| 2.2.2 实验方案设计 | 第28-29页 |
| 2.3 实验结果与分析 | 第29-37页 |
| 2.3.1 薄膜表面形貌和质量分析 | 第29-33页 |
| 2.3.2 氩气与生长速率 | 第33-37页 |
| 2.4 本章结论 | 第37-39页 |
| 第3章 等离子体空间分布研究 | 第39-49页 |
| 3.1 引言 | 第39页 |
| 3.2 实验 | 第39-41页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第41-48页 |
| 3.3.1 基团横向分布 | 第41-44页 |
| 3.3.2 基团纵向分布 | 第44-48页 |
| 3.4 本章结论 | 第48-49页 |
| 第4章 碳源浓度的发射光谱法研究 | 第49-57页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 实验 | 第49-50页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第50-55页 |
| 4.4 本章结论 | 第55-57页 |
| 第5章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 总结 | 第57-58页 |
| 5.2 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-67页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69页 |