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SLM钴铬合金的金瓷结合强度研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第11-23页
    1.1 前言第11页
    1.2 金属烤瓷修复体概述第11-16页
        1.2.1 金属烤瓷修复体基本构成第12页
        1.2.2 金属基底冠的性能要求第12-14页
        1.2.3 金属基底冠制作方法简介第14-16页
        1.2.4 金瓷结合强度简介第16页
    1.3 国内外研究现状第16-19页
        1.3.1 表面处理第16-17页
        1.3.2 瓷粉研制第17-18页
        1.3.3 烤瓷工艺第18页
        1.3.4 不同的金属基底冠制作方法第18-19页
    1.4 现有金属烤瓷修复体制作方法存在的不足第19-20页
    1.5 本文研究内容及意义第20-23页
        1.5.1 本文研究内容第20页
        1.5.2 本文研究意义第20页
        1.5.3 论文框架第20-23页
第2章 金属烤瓷修复体金瓷结合强度的研究基础第23-31页
    2.1 金瓷结合影响机制第23-24页
    2.2 影响金瓷结合强度的因素第24-27页
        2.2.1 设计制作的合理性第25-26页
        2.2.2 热膨胀系数第26-27页
        2.2.3 金属层的表面湿润状态第27页
    2.3 金瓷结合强度的测试方法第27-29页
    2.4 本章小结第29-31页
第3章 SLM技术打印钴铬基底冠的可行性研究第31-39页
    3.1 引言第31页
    3.2 SLM打印基底冠适合性试验第31-35页
        3.2.1 金属基底冠的设计第31-32页
        3.2.2 金属基底冠成型第32-34页
        3.2.3 结果分析第34-35页
    3.3 SLM打印试件的机械性能研究第35-37页
        3.3.1 试件打印第35页
        3.3.2 拉伸试验第35-36页
        3.3.3 结果分析第36-37页
    3.4 本章小结第37-39页
第4章 表面粗糙度对SLM钴铬合金金瓷结合强度的影响第39-49页
    4.1 引言第39页
    4.2 实验思路第39页
    4.3 实验设备和材料第39-40页
        4.3.1 实验设备第39-40页
        4.3.2 实验材料第40页
    4.4 实验方法第40-44页
        4.4.1 加工工艺第40页
        4.4.2 试件准备第40-41页
        4.4.3 粗糙度测量第41-42页
        4.4.4 表征观察第42页
        4.4.5 预氧化处理第42-43页
        4.4.6 试件烤瓷第43页
        4.4.7 金瓷界面观察第43-44页
        4.4.8 三点弯曲试验第44页
    4.5 实验结果第44-48页
        4.5.1 粗糙度测量结果第44页
        4.5.2 SEM观察第44-48页
        4.5.3 金瓷结合强度第48页
    4.6 本章小结第48-49页
第5章 预氧化对SLM钴铬合金金瓷结合强度的影响第49-59页
    5.1 引言第49页
    5.2 实验思路第49-50页
    5.3 实验设备和材料第50页
        5.3.1 实验设备第50页
        5.3.2 实验材料第50页
    5.4 实验方法第50-51页
        5.4.1 加工工艺第50页
        5.4.2 试件制备第50页
        5.4.3 金属试件的预氧化处理第50-51页
        5.4.4 氧化膜观察第51页
        5.4.5 试件烤瓷第51页
        5.4.6 金瓷结合界面扫描电镜观察、EDS能谱分析第51页
        5.4.7 三点弯曲试验第51页
    5.5 实验结果第51-58页
        5.5.1 SEM、EDS观察第51-57页
        5.5.2 金瓷结合强度第57-58页
    5.6 本章小结第58-59页
第6章 总结与展望第59-61页
    6.1 总结第59-60页
    6.2 创新点第60页
    6.3 展望第60-61页
附录第61-67页
参考文献第67-71页
致谢第71页

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