| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 引言 | 第11-13页 |
| 1 绪论 | 第13-22页 |
| ·激光技术概述 | 第13-14页 |
| ·激光材料概述 | 第14-17页 |
| ·激光材料的分类 | 第14-15页 |
| ·激光材料的新应用 | 第15-17页 |
| ·掺Bi玻璃和晶态材料发展历史 | 第17-19页 |
| ·第一阶段——发现近红外发光 | 第17-18页 |
| ·第二阶段——实现掺Bi玻璃的激光输出 | 第18页 |
| ·第三阶段——首次单晶的近红外发光 | 第18-19页 |
| ·Bi离子红外发光机理的研究现状 | 第19-20页 |
| ·Co离子的研究历史 | 第20-21页 |
| ·近红外宽带发光的应用 | 第21页 |
| ·论文的主要内容 | 第21-22页 |
| 2 掺Bi,Co的钨酸镉单晶体的制备和性能表征 | 第22-37页 |
| ·CdWO_4晶体的生长方法 | 第22-24页 |
| ·提拉法 | 第22-23页 |
| ·水热法 | 第23页 |
| ·坩埚下降法 | 第23-24页 |
| ·实验装置 | 第24-28页 |
| ·结晶炉 | 第25-26页 |
| ·坩埚 | 第26-28页 |
| ·生长工艺 | 第28-30页 |
| ·性能表征 | 第30-32页 |
| ·XRD图谱 | 第30-31页 |
| ·吸收光谱 | 第31页 |
| ·荧光光谱与荧光寿命 | 第31-32页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第32页 |
| ·CWO晶体 | 第32-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 3 Bi掺杂钨酸镉晶体坩埚下降法生长及近红外发光特性 | 第37-45页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·实验 | 第37-39页 |
| ·晶体生长 | 第37-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-44页 |
| ·晶体的XRD图谱与吸收特性 | 第39-40页 |
| ·发射光谱与荧光衰减曲线 | 第40-44页 |
| ·结论 | 第44-45页 |
| 4 掺Bi钨酸镉单晶体发光特性的研究 | 第45-54页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验 | 第45-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-53页 |
| ·X射线光子能谱 | 第46-48页 |
| ·吸收光谱 | 第48-49页 |
| ·发射光谱与荧光寿命 | 第49-53页 |
| ·结论 | 第53-54页 |
| 5 掺Co钨酸镉晶体的坩埚下降法生长及光谱特性 | 第54-65页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·实验 | 第54-56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-61页 |
| ·X射线衍射图谱 | 第56-57页 |
| ·吸收光谱与晶格场参数 | 第57-61页 |
| ·荧光光谱 | 第61-64页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| 6 结论与展望 | 第65-67页 |
| ·结论 | 第65-66页 |
| ·展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-74页 |
| 在学研究成果 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75页 |