| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 前言 | 第8-16页 |
| ·类金刚石薄膜概述 | 第8-11页 |
| ·类金刚石薄膜的结构和性能 | 第8-9页 |
| ·类金刚石薄膜的分类 | 第9-10页 |
| ·氢化类金刚石薄膜的生长机理 | 第10-11页 |
| ·氟化类金刚石薄膜 | 第11-13页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的制备方法 | 第12页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的性能 | 第12-13页 |
| ·低辐射玻璃 | 第13-14页 |
| ·选题背景 | 第14-15页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 实验内容 | 第16-22页 |
| ·镀膜设备 | 第16-17页 |
| ·PECVD 原理 | 第16页 |
| ·RF-PECVD 设备 | 第16-17页 |
| ·样品制备 | 第17-19页 |
| ·在低辐射玻璃表面沉积 DLC 薄膜 | 第17-18页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的制备 | 第18-19页 |
| ·测试与表征 | 第19-22页 |
| ·沉积了类金刚石薄膜的低辐射玻璃的测试与表征 | 第20页 |
| ·氟化类金刚石薄膜的测试与表征 | 第20-22页 |
| 第3章 DLC 薄膜对 Low-E 玻璃可加工性能的影响 | 第22-31页 |
| ·摩擦磨损实验 | 第22-24页 |
| ·耐酸碱实验 | 第24-25页 |
| ·DLC 薄膜对 Low-E 玻璃辐射率及光学性能影响 | 第25-30页 |
| ·本章总结 | 第30-31页 |
| 第4章 F-DLC 薄膜的制备与性能研究 | 第31-54页 |
| ·体相掺杂法制备氟化类金刚石薄膜 | 第31-41页 |
| ·水接触角测试 | 第31-33页 |
| ·沉积速率 | 第33页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第33-36页 |
| ·表面形貌和粗糙度分析 | 第36-38页 |
| ·拉曼图谱分析 | 第38-39页 |
| ·摩擦磨损实验 | 第39-41页 |
| ·表面氟化法制备氟化类金刚石薄膜 | 第41-50页 |
| ·水接触角测试 | 第41-43页 |
| ·刻蚀速率和自偏压 | 第43页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第43-45页 |
| ·表面形貌和粗糙度分析 | 第45-47页 |
| ·拉曼图谱分析 | 第47-48页 |
| ·摩擦磨损实验 | 第48-50页 |
| ·F-DLC 薄膜水接触角影响因素综合分析 | 第50-51页 |
| ·F-DLC 薄膜摩擦磨损性能综合分析 | 第51-52页 |
| ·本章总结 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 在读期间发表论文 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |