碱腐蚀多晶硅表面微结构研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·多晶硅表面处理的现状与未来 | 第11-15页 |
| ·机械刻槽技术 | 第11页 |
| ·激光刻槽技术 | 第11-13页 |
| ·反应离子腐蚀（RIE） | 第13-14页 |
| ·化学腐蚀法 | 第14-15页 |
| ·多晶硅太阳电池的应用 | 第15-17页 |
| ·光伏建筑一体化应用 | 第15-16页 |
| ·空间应用 | 第16页 |
| ·光热一体化 | 第16页 |
| ·其他应用 | 第16-17页 |
| ·本文主要研究内容及意义 | 第17-19页 |
| 第二章 晶体硅太阳电池基础理论 | 第19-27页 |
| ·pn 结 | 第19-20页 |
| ·晶体硅太阳电池 | 第20-26页 |
| ·晶体硅太阳电池的工作原理 | 第20-21页 |
| ·太阳电池性能参数 | 第21-25页 |
| ·太阳电池组件 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 多晶硅表面微结构的碱腐蚀机理 | 第27-33页 |
| ·多晶硅表面腐蚀原理 | 第27-30页 |
| ·多晶硅碱反应的一般动力学过程 | 第30-31页 |
| ·碱液异向腐蚀特性的调制原理 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 添加剂对碱液腐蚀的多晶硅表面微结构影响 | 第33-48页 |
| ·普通碱液腐蚀的多晶硅表面 | 第33-35页 |
| ·添加剂和碱液腐蚀多晶硅表面过程 | 第35-38页 |
| ·添加剂含量对多晶硅表面微结构的影响 | 第38-44页 |
| ·碱液中加入 1 ml 添加剂 | 第38-40页 |
| ·碱液中加入 2 ml 添加剂 | 第40-41页 |
| ·碱液中加入 4 ml 添加剂 | 第41-44页 |
| ·碱液腐蚀的多晶硅表面低反射率分析 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第五章 工艺参数对多晶硅表面微结构的影响 | 第48-52页 |
| ·温度的影响 | 第48-49页 |
| ·时间的影响 | 第49-50页 |
| ·碱制绒多晶硅太阳电池转换效率 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第六章 结论与展望 | 第52-53页 |
| ·结论 | 第52页 |
| ·展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表或录用的论文 | 第58页 |
