摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
注释表 | 第10-11页 |
第一章 绪论 | 第11-18页 |
·引言 | 第11-12页 |
·CeO_2的特征与应用 | 第12-14页 |
·CeO_2的资源状况 | 第12页 |
·CeO_2的结构与性质 | 第12-13页 |
·CeO_2的应用 | 第13-14页 |
·CeO_2的分散研究现状 | 第14页 |
·CeO_2在水介质中的分散研究现状 | 第14页 |
·CeO_2在乙醇-水介质中的分散研究现状 | 第14页 |
·微晶玻璃超精密抛光的研究现状 | 第14-15页 |
·本课题的研究意义 | 第15页 |
·主要研究内容 | 第15-18页 |
第二章 微/纳米 CeO_2粉体在乙醇-水介质中的分散性能研究 | 第18-44页 |
·引言 | 第18页 |
·分散技术简介 | 第18-22页 |
·粉体在液相中的分散过程 | 第18-19页 |
·分散稳定理论 | 第19-21页 |
·粉体在液相中的分散方法 | 第21-22页 |
·微米 CeO_2粉体在乙醇-水介质中的分散性能研究 | 第22-34页 |
·实验 | 第22-25页 |
·结果分析与讨论 | 第25-34页 |
·纳米 CeO_2在乙醇-水介质中的分散性能研究 | 第34-43页 |
·实验 | 第34-35页 |
·实验材料 | 第34页 |
·实验仪器 | 第34-35页 |
·分散性能表征方法 | 第35页 |
·结果分析与讨论 | 第35-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
第三章 微/纳米 CeO_2抛光液抛光微晶玻璃的工艺研究 | 第44-62页 |
·引言 | 第44页 |
·CMP 技术 | 第44-45页 |
·CMP 技术简介 | 第44页 |
·影响微晶玻璃 CMP 抛光质量的因素分析 | 第44-45页 |
·实验材料、仪器和设备 | 第45-47页 |
·微晶玻璃预处理工艺 | 第47-48页 |
·微晶玻璃的粘接工艺 | 第47-48页 |
·微晶玻璃的预抛光工艺 | 第48页 |
·微米级 CeO_2抛光液抛光工艺研究 | 第48-55页 |
·实验设计 | 第48-49页 |
·实验结果与讨论 | 第49-53页 |
·离差分析 | 第53-54页 |
·综合平衡法 | 第54-55页 |
·纳米级 CeO_2抛光液抛光工艺研究 | 第55-61页 |
·实验设计 | 第55-56页 |
·实验结果与讨论 | 第56-59页 |
·离差分析 | 第59-60页 |
·综合平衡法 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-62页 |
第四章 总结与展望 | 第62-64页 |
·总结 | 第62-63页 |
·展望 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
在校期间的研究成果及发表的学术论文 | 第70页 |