氧化石墨的制备及其热剥离产物的性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-28页 |
| ·石墨烯和功能型石墨烯 | 第7-9页 |
| ·石墨烯发现及其特性 | 第7-8页 |
| ·功能型石墨烯 | 第8-9页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第9-12页 |
| ·剥离法 | 第9-11页 |
| ·生长法 | 第11-12页 |
| ·热剥离法制备功能型石墨烯 | 第12-22页 |
| ·热剥离法制备功能型石墨烯机理 | 第12-15页 |
| ·石墨原料的选取对热剥离影响 | 第15-16页 |
| ·氧化工艺的影响 | 第16-18页 |
| ·热剥离工艺的影响 | 第18-21页 |
| ·功能型石墨烯的后处理 | 第21-22页 |
| ·广义热剥离 | 第22-25页 |
| ·微波处理 | 第22-24页 |
| ·照射激光或相机闪光还原 | 第24页 |
| ·电子束 | 第24-25页 |
| ·功能型石墨烯应用 | 第25-26页 |
| ·超级电容器 | 第25页 |
| ·复合材料 | 第25-26页 |
| ·本论文研究工作及意义 | 第26-28页 |
| 第二章 实验部分 | 第28-38页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第28-29页 |
| ·实验试剂 | 第28页 |
| ·实验仪器 | 第28-29页 |
| ·石墨烯的制备 | 第29-34页 |
| ·氧化石墨的制备 | 第29-31页 |
| ·氧化石墨的还原 | 第31-33页 |
| ·石墨烯电极的制备 | 第33页 |
| ·易还原氧化石墨的制备机理 | 第33-34页 |
| ·功能型石墨烯的制备机理 | 第34页 |
| ·材料测试表征方法 | 第34-38页 |
| ·热重分析（TGA） | 第34-35页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第35-36页 |
| ·红外光谱分析（FT-IR） | 第36页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FESEM） | 第36-37页 |
| ·电化学测试 | 第37-38页 |
| 第三章 三种氧化石墨的结构和性能 | 第38-49页 |
| ·三种 GO 的红外分析 | 第38-40页 |
| ·三种 GO 热重分析 | 第40-41页 |
| ·三种 GO 的 XRD 分析 | 第41-42页 |
| ·三种 GO 的低温热处理 | 第42-45页 |
| ·GO 热效应 | 第42-43页 |
| ·热剥离产物红外谱图分析 | 第43-44页 |
| ·热剥离产物 XRD 谱图分析 | 第44-45页 |
| ·三种 GO 的微波处理 | 第45-47页 |
| ·微波效应 | 第45-46页 |
| ·膨胀剥离产物红外谱图 | 第46-47页 |
| ·膨胀剥离产物 XRD 谱图 | 第47页 |
| ·三种 GO 的热稳定性分析 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第四章 功能型石墨烯的制备及表征 | 第49-64页 |
| ·低温热剥离法制备石墨烯影响因素 | 第49-53页 |
| ·还原温度的影响 | 第49-51页 |
| ·热剥离还原时间的影响 | 第51-53页 |
| ·微波处理法制备石墨烯影响因素 | 第53-57页 |
| ·微波处理时间的影响 | 第53-55页 |
| ·微波处理强度的影响 | 第55-57页 |
| ·两种方法的剥离效果 | 第57-59页 |
| ·红外分析 | 第57-58页 |
| ·XRD 分析 | 第58-59页 |
| ·热剥离产物的 FE-SEM 分析 | 第59-60页 |
| ·热剥离产物的电化学性能测试 | 第60-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
