| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 符号说明 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| ·化学修饰电极 | 第11-15页 |
| ·化学修饰电极的定义 | 第11页 |
| ·化学修饰电极的制备方法 | 第11-13页 |
| ·化学修饰电极的表征 | 第13-14页 |
| ·化学修饰电极的应用 | 第14-15页 |
| ·纳米材料在化学修饰电极中的应用 | 第15-19页 |
| ·纳米碳材料 | 第15-18页 |
| ·金属及其化合物纳米材料 | 第18-19页 |
| ·氨基酸 | 第19-21页 |
| ·氨基酸的结构与性质 | 第19页 |
| ·氨基酸的测定 | 第19-21页 |
| ·立题依据与主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 色氨酸在多壁碳纳米管-Nafion 修饰电极上的电化学研究 | 第22-34页 |
| ·前言 | 第22-23页 |
| ·实验部分 | 第23-24页 |
| ·仪器与试剂 | 第23-24页 |
| ·实验过程 | 第24页 |
| ·实验方法 | 第24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-33页 |
| ·不同电极的交流阻抗谱 | 第24-25页 |
| ·修饰电极的有效面积 | 第25-26页 |
| ·电子转移速率常数 | 第26-28页 |
| ·色氨酸在电极上的电化学行为 | 第28-29页 |
| ·多壁碳纳米管的用量 | 第29页 |
| ·Nafion 的用量 | 第29-30页 |
| ·支持电解质的影响 | 第30页 |
| ·溶液 pH 值的影响 | 第30-31页 |
| ·扫描速率对峰电流的影响 | 第31-32页 |
| ·工作曲线 | 第32页 |
| ·重复性和稳定性试验 | 第32页 |
| ·抗干扰性试验 | 第32-33页 |
| ·实际样品的测定 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 酪氨酸在氧化铜/多壁碳纳米管修饰电极上的电化学研究 | 第34-50页 |
| ·前言 | 第34-35页 |
| ·实验部分 | 第35-36页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第35-36页 |
| ·实验过程 | 第36页 |
| ·实验方法 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-49页 |
| ·CuO/MWNTs/GCE 的制备 | 第36-37页 |
| ·不同电极的交流阻抗谱 | 第37-38页 |
| ·CuO/MWNTs/GCE 的电化学特性 | 第38-41页 |
| ·酪氨酸在 CuO/MWNTs/GCE 上的伏安特性 | 第41-42页 |
| ·电沉积时间条件选择 | 第42-43页 |
| ·支持电解质的影响 | 第43页 |
| ·溶液 pH 值的影响 | 第43-44页 |
| ·扫描速率对峰电流的影响 | 第44-45页 |
| ·工作曲线和检测限 | 第45-47页 |
| ·重复性和稳定性试验 | 第47页 |
| ·抗干扰性试验 | 第47-48页 |
| ·实际样品的测定 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 氧化亚铜-多壁碳纳米管修饰电极检测氨基葡萄糖酸的研究 | 第50-59页 |
| ·前言 | 第50页 |
| ·实验部分 | 第50-52页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第50-51页 |
| ·实验过程 | 第51-52页 |
| ·实验方法 | 第52页 |
| ·实验结果与讨论 | 第52-58页 |
| ·不同电极的交流阻抗谱 | 第52-53页 |
| ·氨基葡萄糖酸在不同电极上的电化学行为 | 第53页 |
| ·氧化亚铜与多壁碳纳米管比例的优化 | 第53-54页 |
| ·扫描速率对峰电流的影响 | 第54-55页 |
| ·溶液 pH 值的影响 | 第55-56页 |
| ·支持电解质的影响 | 第56页 |
| ·工作曲线和检测限 | 第56-57页 |
| ·抗干扰性试验 | 第57页 |
| ·重复性和稳定性试验 | 第57页 |
| ·加标回收试验 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 总结与展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 附录：作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69页 |
