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磁控溅射制备金属掺杂氧化钛薄膜及其光学性质研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-8页
第一章 绪论第8-18页
   ·引言第8-9页
   ·二氧化钛的结构和性质第9-11页
   ·二氧化钛的应用第11-14页
   ·常用制备方法第14-16页
     ·化学气相沉积法第14页
     ·分子束外延法第14-15页
     ·脉冲激光沉积法第15页
     ·溶胶-凝胶法第15页
     ·阳极氧化法第15-16页
     ·磁控溅射法第16页
   ·本文的选题依据与研究内容第16-18页
第二章 实验原理及试验方法第18-27页
   ·实验原理和制备方法第18-21页
     ·磁控共溅射原理第18-19页
     ·实验设备第19-20页
     ·制备方法第20-21页
   ·表征方法第21-27页
     ·X-射线衍射(XRD)第21-22页
     ·紫外-可见光分光光度计(UV-Vis)第22-23页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第23-24页
     ·能谱仪(EDS)第24-25页
     ·原子力显微镜(AFM)第25页
     ·台阶仪第25-27页
第三章 TiO_2薄膜的制备及其光学特性第27-37页
   ·表面成分分析第27-28页
   ·溅射功率对TiO_2薄膜的影响第28-30页
     ·制备条件第28页
     ·溅射功率对TiO_2薄膜相组成的影响第28-29页
     ·溅射功率对TiO_2薄膜透射谱的影响第29-30页
   ·氩气流量对TiO_2薄膜的影响第30-32页
     ·制备条件第30页
     ·氩气流量对TiO_2薄膜相组成的影响第30-31页
     ·氩气流量对TiO_2薄膜透射谱的影响第31-32页
   ·溅射压强对TiO_2薄膜的影响第32-34页
     ·制备条件第32页
     ·溅射气压对TiO_2薄膜相组成的影响第32-33页
     ·溅射气压对TiO_2薄膜透射谱的影响第33-34页
   ·溅射时间对TiO_2薄膜的影响第34-36页
     ·制备条件第34页
     ·溅射时间对TiO_2薄膜相组成的影响第34-35页
     ·溅射时间对TiO_2薄膜透射谱的影响第35-36页
   ·小结第36-37页
第四章 Zn掺杂二氧化钛薄膜制备及其光学特性第37-43页
   ·制备条件第37页
   ·表面成分分析第37-38页
   ·生长速率分析第38-39页
   ·组织结构分析第39-40页
   ·表面形貌第40-41页
   ·紫外-可见光吸收特性分析第41-42页
   ·小结第42-43页
第五章 Cu掺杂二氧化钛薄膜制备及其光学特性第43-49页
   ·制备条件第43-44页
   ·表面成分分析第44页
   ·生长速率分析第44-45页
   ·组织结构分析第45-46页
   ·表面形貌第46-47页
   ·紫外-可见光吸收特性分析第47-48页
   ·小结第48-49页
第六章 结论第49-50页
致谢第50-51页
参考文献第51-54页
攻读硕士学位期间发表学术论文情况第54页

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