磁控溅射制备金属掺杂氧化钛薄膜及其光学性质研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-18页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·二氧化钛的结构和性质 | 第9-11页 |
| ·二氧化钛的应用 | 第11-14页 |
| ·常用制备方法 | 第14-16页 |
| ·化学气相沉积法 | 第14页 |
| ·分子束外延法 | 第14-15页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第15页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第15页 |
| ·阳极氧化法 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射法 | 第16页 |
| ·本文的选题依据与研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 实验原理及试验方法 | 第18-27页 |
| ·实验原理和制备方法 | 第18-21页 |
| ·磁控共溅射原理 | 第18-19页 |
| ·实验设备 | 第19-20页 |
| ·制备方法 | 第20-21页 |
| ·表征方法 | 第21-27页 |
| ·X-射线衍射(XRD) | 第21-22页 |
| ·紫外-可见光分光光度计(UV-Vis) | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第23-24页 |
| ·能谱仪(EDS) | 第24-25页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第25页 |
| ·台阶仪 | 第25-27页 |
| 第三章 TiO_2薄膜的制备及其光学特性 | 第27-37页 |
| ·表面成分分析 | 第27-28页 |
| ·溅射功率对TiO_2薄膜的影响 | 第28-30页 |
| ·制备条件 | 第28页 |
| ·溅射功率对TiO_2薄膜相组成的影响 | 第28-29页 |
| ·溅射功率对TiO_2薄膜透射谱的影响 | 第29-30页 |
| ·氩气流量对TiO_2薄膜的影响 | 第30-32页 |
| ·制备条件 | 第30页 |
| ·氩气流量对TiO_2薄膜相组成的影响 | 第30-31页 |
| ·氩气流量对TiO_2薄膜透射谱的影响 | 第31-32页 |
| ·溅射压强对TiO_2薄膜的影响 | 第32-34页 |
| ·制备条件 | 第32页 |
| ·溅射气压对TiO_2薄膜相组成的影响 | 第32-33页 |
| ·溅射气压对TiO_2薄膜透射谱的影响 | 第33-34页 |
| ·溅射时间对TiO_2薄膜的影响 | 第34-36页 |
| ·制备条件 | 第34页 |
| ·溅射时间对TiO_2薄膜相组成的影响 | 第34-35页 |
| ·溅射时间对TiO_2薄膜透射谱的影响 | 第35-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 第四章 Zn掺杂二氧化钛薄膜制备及其光学特性 | 第37-43页 |
| ·制备条件 | 第37页 |
| ·表面成分分析 | 第37-38页 |
| ·生长速率分析 | 第38-39页 |
| ·组织结构分析 | 第39-40页 |
| ·表面形貌 | 第40-41页 |
| ·紫外-可见光吸收特性分析 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第五章 Cu掺杂二氧化钛薄膜制备及其光学特性 | 第43-49页 |
| ·制备条件 | 第43-44页 |
| ·表面成分分析 | 第44页 |
| ·生长速率分析 | 第44-45页 |
| ·组织结构分析 | 第45-46页 |
| ·表面形貌 | 第46-47页 |
| ·紫外-可见光吸收特性分析 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第六章 结论 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第54页 |
