磁控溅射制备金属掺杂氧化钛薄膜及其光学性质研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
目录 | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第8-18页 |
·引言 | 第8-9页 |
·二氧化钛的结构和性质 | 第9-11页 |
·二氧化钛的应用 | 第11-14页 |
·常用制备方法 | 第14-16页 |
·化学气相沉积法 | 第14页 |
·分子束外延法 | 第14-15页 |
·脉冲激光沉积法 | 第15页 |
·溶胶-凝胶法 | 第15页 |
·阳极氧化法 | 第15-16页 |
·磁控溅射法 | 第16页 |
·本文的选题依据与研究内容 | 第16-18页 |
第二章 实验原理及试验方法 | 第18-27页 |
·实验原理和制备方法 | 第18-21页 |
·磁控共溅射原理 | 第18-19页 |
·实验设备 | 第19-20页 |
·制备方法 | 第20-21页 |
·表征方法 | 第21-27页 |
·X-射线衍射(XRD) | 第21-22页 |
·紫外-可见光分光光度计(UV-Vis) | 第22-23页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第23-24页 |
·能谱仪(EDS) | 第24-25页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第25页 |
·台阶仪 | 第25-27页 |
第三章 TiO_2薄膜的制备及其光学特性 | 第27-37页 |
·表面成分分析 | 第27-28页 |
·溅射功率对TiO_2薄膜的影响 | 第28-30页 |
·制备条件 | 第28页 |
·溅射功率对TiO_2薄膜相组成的影响 | 第28-29页 |
·溅射功率对TiO_2薄膜透射谱的影响 | 第29-30页 |
·氩气流量对TiO_2薄膜的影响 | 第30-32页 |
·制备条件 | 第30页 |
·氩气流量对TiO_2薄膜相组成的影响 | 第30-31页 |
·氩气流量对TiO_2薄膜透射谱的影响 | 第31-32页 |
·溅射压强对TiO_2薄膜的影响 | 第32-34页 |
·制备条件 | 第32页 |
·溅射气压对TiO_2薄膜相组成的影响 | 第32-33页 |
·溅射气压对TiO_2薄膜透射谱的影响 | 第33-34页 |
·溅射时间对TiO_2薄膜的影响 | 第34-36页 |
·制备条件 | 第34页 |
·溅射时间对TiO_2薄膜相组成的影响 | 第34-35页 |
·溅射时间对TiO_2薄膜透射谱的影响 | 第35-36页 |
·小结 | 第36-37页 |
第四章 Zn掺杂二氧化钛薄膜制备及其光学特性 | 第37-43页 |
·制备条件 | 第37页 |
·表面成分分析 | 第37-38页 |
·生长速率分析 | 第38-39页 |
·组织结构分析 | 第39-40页 |
·表面形貌 | 第40-41页 |
·紫外-可见光吸收特性分析 | 第41-42页 |
·小结 | 第42-43页 |
第五章 Cu掺杂二氧化钛薄膜制备及其光学特性 | 第43-49页 |
·制备条件 | 第43-44页 |
·表面成分分析 | 第44页 |
·生长速率分析 | 第44-45页 |
·组织结构分析 | 第45-46页 |
·表面形貌 | 第46-47页 |
·紫外-可见光吸收特性分析 | 第47-48页 |
·小结 | 第48-49页 |
第六章 结论 | 第49-50页 |
致谢 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-54页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第54页 |