| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| ·研究目的和意义 | 第7-8页 |
| ·锑化物半导体激光器研究现状 | 第8-10页 |
| ·半导体激光器腔面膜研究现状 | 第10-11页 |
| ·主要研究内容 | 第11-13页 |
| 第二章 半导体激光器工作原理及光学薄膜理论 | 第13-26页 |
| ·半导体激光器工作原理 | 第13-17页 |
| ·光学薄膜理论 | 第17-24页 |
| ·激光腔面膜损伤机理 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 腔面膜膜系设计 | 第26-36页 |
| ·材料的选取 | 第26-30页 |
| ·膜系设计 | 第30-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 薄膜制备 | 第36-45页 |
| ·半导体激光器腔面光学薄膜制备技术 | 第36-37页 |
| ·设备介绍 | 第37-42页 |
| ·制备工艺 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 测试结果及分析 | 第45-49页 |
| ·腔面膜光谱性能的测试 | 第45-46页 |
| ·腔面膜表面形貌及粗糙度测试 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第六章 结论 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |