基横模1.55μm半导体激光器研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·基横模1.55μm半导体激光器的研究背景 | 第8-10页 |
| ·本文的研究目的和意义 | 第10页 |
| ·本文研究内容 | 第10-12页 |
| 第二章 半导体激光器的模式特性 | 第12-18页 |
| ·半导体激光器的基本理论 | 第12-13页 |
| ·半导体激光器的模式特性 | 第13-16页 |
| ·基横模半导体激光器的特点 | 第16-17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第三章 基横模1.55μm半导体激光器的结构设计 | 第18-34页 |
| ·半导体激光器几何结构设计 | 第18-22页 |
| ·半导体激光器外延材料设计 | 第22-27页 |
| ·半导体激光器量子阱数目的优化 | 第27-29页 |
| ·模式特性分析 | 第29-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第四章 基横模1.55μm半导体激光器的工艺实验 | 第34-46页 |
| ·半导体激光器的工艺实验 | 第34-38页 |
| ·等离子体刻蚀技术 | 第38-42页 |
| ·InP的干法刻蚀工艺 | 第42-44页 |
| ·器件的测试与分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 总结 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第50页 |