含嗪类化合物薄膜材料的三阶非线性光学性能
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·文献综述 | 第10-19页 |
| ·非线性光学概念及其发展史 | 第10-12页 |
| ·有机小分子非线性光学材料研究现状 | 第12-17页 |
| ·薄膜的基本概述及制备方法 | 第17-19页 |
| ·三阶非线性光学性能测试 | 第19-22页 |
| ·Z-扫描法的工作原理 | 第19-21页 |
| ·三阶非线性光学效应参数的计算 | 第21-22页 |
| ·本论文的研究意义及主要内容 | 第22-24页 |
| ·研究意义 | 第22-23页 |
| ·主要内容 | 第23页 |
| ·创新点 | 第23-24页 |
| 第二章 吩噻嗪分子成膜性能的研究 | 第24-36页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·成膜方法的选择 | 第24页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第24-25页 |
| ·主要实验仪器 | 第24-25页 |
| ·主要原料 | 第25页 |
| ·染料分子的合成与掺杂薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·染料分子的合成 | 第25-26页 |
| ·薄膜器件的制备 | 第26页 |
| ·掺杂薄膜的性能研究 | 第26-34页 |
| ·紫外可见吸收光谱的测试 | 第27页 |
| ·三阶NLO性能的测试 | 第27-32页 |
| ·对薄膜表面形态的表征 | 第32-33页 |
| ·对薄膜损伤阈值的测试 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第三章 吩噁嗪分子的成膜性能研究 | 第36-52页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第36-37页 |
| ·主要实验仪器 | 第36页 |
| ·主要原料 | 第36-37页 |
| ·吩噁嗪分子的合成、表征及掺杂薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·吩噁嗪分子的合成 | 第37-38页 |
| ·掺杂薄膜的制备 | 第38页 |
| ·掺杂薄膜的光学性能测试 | 第38-51页 |
| ·相同转速下不同掺杂比例的薄膜光学性能研究 | 第38-47页 |
| ·对不同转速下相同掺杂比例的薄膜的光学性能研究 | 第47-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 第四章 噁嗪分子衍生物的成膜性能研究 | 第52-64页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第52-53页 |
| ·主要实验仪器 | 第52页 |
| ·主要原料 | 第52-53页 |
| ·噁嗪分子衍生物的合成及薄膜的制备 | 第53-56页 |
| ·化合物合成路线的选择 | 第53页 |
| ·实验步骤及结构表征 | 第53-55页 |
| ·噁嗪衍生物薄膜的制备 | 第55-56页 |
| ·薄膜的光学性能测试 | 第56-62页 |
| ·紫外可见吸收光谱的测试 | 第56-59页 |
| ·薄膜的三阶NLO性能的测试 | 第59-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 第五章 其它类化合物线性光学性能的研究 | 第64-70页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·实验和分析方法 | 第64页 |
| ·主要试剂 | 第64页 |
| ·分析方法 | 第64页 |
| ·化合物的合成与表征 | 第64-67页 |
| ·化合物合成路线的选择 | 第64-65页 |
| ·实验步骤及结构表征 | 第65-67页 |
| ·线性光学性能测试 | 第67-68页 |
| ·紫外-可见吸收光谱的测试 | 第67-68页 |
| ·荧光发射光谱的测试 | 第68页 |
| ·小结 | 第68-70页 |
| 第六章 全文总结 | 第70-73页 |
| ·本文总结 | 第70-72页 |
| ·展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第77-78页 |
| 附图 | 第78-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
