| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·国内外研究进展 | 第11-19页 |
| ·博物馆环境 | 第11-14页 |
| ·温度的影响 | 第11-12页 |
| ·湿度的影响 | 第12页 |
| ·光线的影响 | 第12页 |
| ·污染性气体的影响 | 第12-13页 |
| ·中国博物馆环境标准 | 第13-14页 |
| ·博物馆藏展材料评估方法 | 第14-16页 |
| ·石英晶体微天平 | 第16-18页 |
| ·QCM 的原理 | 第17页 |
| ·QCM 的研究进展 | 第17-18页 |
| ·离子液体 | 第18-19页 |
| ·离子液体的合成及分类 | 第18页 |
| ·离子液体的研究进展 | 第18-19页 |
| ·论文研究的目的和意义 | 第19-21页 |
| 第2章 [Bmim]Cl 或 Fe-[Bmim]Cl 修饰的 QCM 传感器的制备 | 第21-28页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·试验部分 | 第21-24页 |
| ·试剂与仪器 | 第21-22页 |
| ·实验步骤 | 第22-24页 |
| ·铁基氯化 1-丁基-3-甲基咪唑离子液体(Fe-[Bmim]Cl)的合成 | 第22页 |
| ·傅立叶变换红外光谱的表征(FTIR) | 第22-23页 |
| ·共焦显微拉曼光谱表征(RAMAN) | 第23-24页 |
| ·离子液体涂膜液的制备 | 第24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-27页 |
| ·离子液体制膜条件的确定 | 第24-25页 |
| ·空白银晶振片以及涂膜银晶振片稳定性测试 | 第25-26页 |
| ·空白金晶振片以及镀膜金晶振片稳定性测试 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 [Bmim]Cl 和 Fe-[Bmim]Cl 修饰的 QCM 传感器对 H2S 气体的在线检测 | 第28-43页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验部分 | 第28-30页 |
| ·试剂与仪器 | 第28-29页 |
| ·实验装置图及操作过程 | 第29页 |
| ·H2S 气体浓度换算 | 第29页 |
| ·傅立叶变换红外光谱表征 | 第29-30页 |
| ·共焦显微拉曼光谱表征 | 第30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-41页 |
| ·裸银晶振对 H2S 的响应 | 第30-31页 |
| ·[Bmim]Cl 涂膜层数对 H2S 响应的影响 | 第31-33页 |
| ·涂膜层数对 H2S 响应浓度的影响 | 第31-32页 |
| ·涂膜层数对 H2S 响应时间的影响 | 第32-33页 |
| ·[Bmim]Cl 涂膜银晶振对 H2S 的响应 | 第33-35页 |
| ·Fe-[Bmim]Cl 涂膜金晶振对 H2S 气体的检测 | 第35-37页 |
| ·[Bmim]Cl 涂膜金晶振对 H2S 气体的检测 | 第37-38页 |
| ·[Bmim]Cl 吸附 H2S 气体后的红外光谱表征 | 第38-39页 |
| ·Fe-[Bmim]Cl 吸附 H2S 气体后的红外光谱表征 | 第39-40页 |
| ·Fe-[Bmim]Cl 吸附 H2S 气体后的拉曼光谱表征 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 [Bmim]Cl 和 Fe-[Bmim]Cl 修饰的 QCM 传感器对 CH3COOH 气体的在线检测 | 第43-51页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·实验部分 | 第43-44页 |
| ·试剂与仪器 | 第43页 |
| ·试验装置图及操作过程 | 第43页 |
| ·20℃，CH3COOH 饱和蒸汽的制备与浓度换算 | 第43-44页 |
| ·傅立叶变换红外光谱表征 | 第44页 |
| ·显微共焦拉曼光谱表征 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-50页 |
| ·[Bmim]Cl 涂膜金晶振对 CH3COOH 气体的检测 | 第44-45页 |
| ·Fe-[Bmim]Cl 涂膜金晶振对 CH3COOH 气体的检测 | 第45-47页 |
| ·[Bmim]Cl 吸附 CH3COOH 气体后的红外光谱表征 | 第47-48页 |
| ·Fe-[Bmim]Cl 吸附 CH3COOH 气体后的红外光谱表征 | 第48-49页 |
| ·Fe-[Bmim]Cl 吸附 CH3COOH 气体后的拉曼光谱表征 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第5章 QCM 用于改进的 Oddy 法对铜的测试 | 第51-63页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·实验部分 | 第51-55页 |
| ·试剂及仪器 | 第51页 |
| ·铜镀膜的制备 | 第51-53页 |
| ·待测样品的制备 | 第53-54页 |
| ·试验装置 | 第54页 |
| ·试验操作过程 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-62页 |
| ·空白试验 | 第55-57页 |
| ·镀铜晶振稳定性测试 | 第55页 |
| ·镀铜晶振在不同相对湿度环境下频率的变化情况 | 第55-57页 |
| ·铜在 25℃，低浓度污染性气体及不同相对湿度环境下的腐蚀测试 | 第57-61页 |
| ·相对湿度为 10%时铜的腐蚀 | 第57-58页 |
| ·相对湿度为 68%时铜的腐蚀情况 | 第58-60页 |
| ·相对湿度为 100%时铜的腐蚀情况 | 第60-61页 |
| ·镀铜晶振在不同湿度环境下的腐蚀速率 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第6章 研究结论与展望 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63页 |
| ·展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
