| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·ZnO 材料的基本性质 | 第11-17页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第11-14页 |
| ·ZnO 的能带结构 | 第14-15页 |
| ·ZnO 的电学性质 | 第15页 |
| ·ZnO 的光学特性 | 第15-16页 |
| ·ZnO 的压电特性 | 第16页 |
| ·ZnO 的气敏特性 | 第16-17页 |
| ·ZnO 材料的应用 | 第17-19页 |
| ·光电显示领域中的透明电极 | 第17页 |
| ·可与 GaN 互作缓冲层 | 第17-18页 |
| ·表面声波器件 | 第18页 |
| ·气敏元件 | 第18页 |
| ·紫外光探测器 | 第18-19页 |
| ·ZnO 材料的研究进展及其研究现状 | 第19-21页 |
| ·优质 ZnO 薄膜的外延生长 | 第19页 |
| ·p 型 ZnO 薄膜的研究 | 第19-20页 |
| ·ZnO 纳米结构的研究 | 第20页 |
| ·掺杂对 ZnO 薄膜的光学、电学、磁学等特性进行改性 | 第20-21页 |
| ·本论文主要的研究内容 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-27页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备与表征 | 第27-35页 |
| ·常用的制备方法 | 第27-30页 |
| ·溅射法 | 第27-28页 |
| ·金属有机化学气相沉积法 | 第28-29页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第29页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第29页 |
| ·分子束外延 | 第29-30页 |
| ·常用的表征方法 | 第30-34页 |
| ·X 射线衍射 | 第30-31页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第31-32页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第32-33页 |
| ·紫外分光光度计 | 第33页 |
| ·荧光分光光度计 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第三章 Cu 掺杂 ZnO 薄膜微观结构和光学特性的研究 | 第35-46页 |
| ·实验工艺和基本参数 | 第35-36页 |
| ·ZnO:Cu 薄膜微观结构及光学特性研究 | 第36-44页 |
| ·Cu 掺杂物对 ZnO 薄膜微结构和光学特性的影响 | 第36-38页 |
| ·衬底温度对 ZnO 薄膜微结构和光学特性的影响 | 第38-42页 |
| ·退火温度对 ZnO:Cu 薄膜微观结构和光学特性的影响 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 第四章 Al 掺杂 ZnO 薄膜微观结构和光学特性研究 | 第46-54页 |
| ·实验工艺和基本参数 | 第46-47页 |
| ·ZnO:Al 薄膜微观结构及光学特性研究 | 第47-52页 |
| ·不同 Al 掺杂量对 ZnO 薄膜微观结构的影响 | 第47-48页 |
| ·不同 Al 掺杂量对 ZnO 薄膜形貌的影响 | 第48-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第五章 Ti 掺杂 ZnO 薄膜微观结构和光学特性研究 | 第54-64页 |
| ·实验工艺和基本参数 | 第54-55页 |
| ·ZnO:Ti 薄膜微观结构及光学特性研究 | 第55-61页 |
| ·衬底类型对 ZnO:Ti 薄膜微结构和光学特性的影响 | 第55-56页 |
| ·氧分压对 ZnO:Ti 薄膜微观结构和光学特性的影响 | 第56-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第六章 总结与展望 | 第64-66页 |
| ·总结 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 附录：攻读硕士学位期间发表的论文 | 第67页 |
