| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·化学镀及其发展概述 | 第8页 |
| ·化学镀镍概述 | 第8-12页 |
| ·化学镀镍的发展历史 | 第8-10页 |
| ·化学镀镍的原理及镀液组分 | 第10-11页 |
| ·多元化学镀合金镀层的电阻性能及应用前景 | 第11-12页 |
| ·化学镀Ni-W-P合金镀层 | 第12-18页 |
| ·化学镀Ni-W-P合金沉积机理 | 第12-15页 |
| ·化学镀Ni-W-P合金镀层的研究现况 | 第15-18页 |
| ·本课题的研究目的、意义及研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 试验工艺与检测方法 | 第20-32页 |
| ·试验材料及实验仪器装置 | 第20-21页 |
| ·试验材料 | 第20页 |
| ·试验仪器装置与试剂 | 第20-21页 |
| ·试验工艺过程 | 第21-25页 |
| ·工艺流程 | 第21-22页 |
| ·试样的前处理工艺 | 第22-23页 |
| ·化学镀基础工艺的确定 | 第23-25页 |
| ·镀后热处理工艺 | 第25页 |
| ·镀层结构与性能检测方法 | 第25-30页 |
| ·镀层微观形貌及组织结构分析 | 第25页 |
| ·镀层成分的测定 | 第25页 |
| ·镀层显微硬度的测定 | 第25-26页 |
| ·耐蚀性的测定 | 第26-27页 |
| ·耐磨性的测定 | 第27页 |
| ·结合强度的测定 | 第27-28页 |
| ·镀速的测定 | 第28-29页 |
| ·镀层孔隙率的测定 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 化学镀Ni-W-P合金镀层的电阻特性研究 | 第32-43页 |
| ·化学镀Ni-W-P电阻特性的评估指标及测量方法 | 第32-34页 |
| ·化学镀Ni-W-P电阻特性的评估指标 | 第32-33页 |
| ·化学镀Ni-W-P镀层电阻率的测定 | 第33-34页 |
| ·化学镀Ni-W-P合金工艺的优化 | 第34-37页 |
| ·正交试验因素和水平的确定 | 第34-36页 |
| ·镀层镀速试验结果分析 | 第36页 |
| ·镀层电阻率试验结果分析 | 第36-37页 |
| ·质量浓度对沉积速率和电阻率的影响 | 第37-41页 |
| ·质量浓度对沉积速率的影响 | 第37-39页 |
| ·质量浓度对电阻率的影响 | 第39-41页 |
| ·热处理对化学镀Ni-W-P合金镀层的电阻性能的影响 | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 化学镀Ni-W-P合金镀层的组织结构和性能 | 第43-54页 |
| ·化学镀Ni-W-P合金镀层的表面形貌 | 第43-44页 |
| ·镀层结构分析 | 第44-45页 |
| ·化学镀Ni-W-P合金镀层的耐蚀性 | 第45-48页 |
| ·镀层自腐蚀电位的测定 | 第45-46页 |
| ·镀层浸泡腐蚀试验 | 第46-48页 |
| ·化学镀Ni-W-P合金镀层的硬度 | 第48-49页 |
| ·化学镀Ni-W-P合金镀层的耐磨性 | 第49-50页 |
| ·化学镀Ni-W-P合金镀层的结合力 | 第50页 |
| ·化学镀Ni-W-P合金镀层的孔隙率 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-54页 |
| 第五章 结论 | 第54-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第61-62页 |