| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| ·薄膜晶体管的基本理论 | 第11-15页 |
| ·薄膜晶体管的典型结构 | 第11页 |
| ·薄膜晶体管的工作原理 | 第11-13页 |
| ·薄膜晶体管的电学性能分析 | 第13-14页 |
| ·薄膜晶体管的主要参数 | 第14-15页 |
| ·低压栅介质材料简介 | 第15-18页 |
| ·高κ材料 | 第15-16页 |
| ·自组装栅介质 | 第16页 |
| ·固态电解液栅介质 | 第16-18页 |
| ·薄膜晶体管的制备方法 | 第18-22页 |
| ·磁控溅射法 | 第19-20页 |
| ·电子束蒸发技术 | 第20-21页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积技术 | 第21-22页 |
| ·常见化学镀膜方法简介 | 第22页 |
| ·薄膜晶体管的分析测试技术 | 第22-24页 |
| ·薄膜晶体管的应用 | 第24-26页 |
| ·本文的研究背景和研究内容 | 第26-28页 |
| ·研究背景 | 第26-27页 |
| ·研究内容 | 第27-28页 |
| 第2章 低压介孔 SiO_2栅介质薄膜晶体管性能优化 | 第28-37页 |
| ·实验试剂和设备 | 第28-29页 |
| ·浸渍法制备氧化铟薄膜晶体管 | 第29-30页 |
| ·实验结果与讨论 | 第30-36页 |
| ·介孔 SiO_2栅介质表征 | 第30-31页 |
| ·漏电流特性表征与讨论 | 第31-32页 |
| ·电容与离子电导率性能表征 | 第32-34页 |
| ·电学性能表征 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第3章 低压 ITO 基壳聚糖薄膜晶体管 | 第37-50页 |
| ·实验试剂和设备 | 第38页 |
| ·实验方法 | 第38-40页 |
| ·壳聚糖栅介质的表征与测试 | 第40-43页 |
| ·壳聚糖栅介质膜的形貌 | 第40-41页 |
| ·壳聚糖栅介质的电学性能 | 第41-43页 |
| ·壳聚糖栅介质的厚度影响 | 第43页 |
| ·壳聚糖薄膜晶体管的性能测试与讨论 | 第43-49页 |
| ·壳聚糖薄膜晶体管的光学测试 | 第43-44页 |
| ·器件的电学性能 | 第44-47页 |
| ·壳聚糖薄膜晶体管的稳定性测试 | 第47-48页 |
| ·壳聚糖薄膜晶体管的性能优势 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-61页 |
| 附录 A（攻读学位期间所发表的学术论文目录） | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |