| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-25页 |
| §1．1 磁光记录原理 | 第7-11页 |
| §1．2 物质的磁性基础 | 第11-14页 |
| 1．2．1 原子磁性 | 第11-14页 |
| 1．2．2 固体磁性 | 第14页 |
| §1．3 磁光克尔效应与磁性理论 | 第14-16页 |
| 1．3．1 磁光克尔效应 | 第14-15页 |
| 1．3．2 磁光效应的物理原理 | 第15-16页 |
| §1．4 磁光记录对材料的要求 | 第16-17页 |
| §1．5 磁光存储技术及介质材料的发展 | 第17-22页 |
| 1．5．1 磁光存储的发展 | 第17-18页 |
| 1．5．2 磁光记录材料的发展 | 第18-22页 |
| §1．6 磁光记录介质磁光克尔效应的研究 | 第22-23页 |
| §1．7 本文的主要内容 | 第23-25页 |
| 第二章 非晶稀土—过渡金属（RE-TM）磁性薄膜的磁光特性 | 第25-33页 |
| §2．1 非晶稀土—过渡系（RE-TM）薄膜的磁特性 | 第25-26页 |
| §2．2 非晶稀土—过渡系（RE-TM）薄膜的基本特点 | 第26-29页 |
| §2．3 几种RE-TN薄膜的磁和磁光特性 | 第29-33页 |
| 第三章 实验方法及内容 | 第33-42页 |
| §3．1 非晶RE-TM磁光薄膜的制备 | 第33-36页 |
| 3．1．1 SPF—430H射频磁控溅射系统简介 | 第33-34页 |
| 3．1．2 基片清洗 | 第34-35页 |
| 3．1．3 轻稀土掺杂TbFeCo磁光记录膜的制备 | 第35-36页 |
| §3．2 磁光性能的测试 | 第36-40页 |
| §3．3 磁光薄膜成分的测试 | 第40-42页 |
| 3．3．1 XPS简介 | 第40-41页 |
| 3．3．2 XPS原理 | 第41-42页 |
| 第四章 轻稀土掺杂TbFeCo薄膜磁光性能的研究 | 第42-58页 |
| §4．1 Nd掺杂 | 第43-44页 |
| §4．2 Ce掺杂 | 第44-46页 |
| §4．3 Pr掺杂 | 第46-47页 |
| §4．4 Pr掺杂 | 第47-49页 |
| §4．5 Sm、Pr掺杂 | 第49-50页 |
| §4．6 Nd、Pr掺杂 | 第50-52页 |
| §4．7 Ce、Pr掺杂 | 第52-53页 |
| §4．8 Ce、Nd掺杂 | 第53-55页 |
| §4．9 Sm、Ce掺杂 | 第55-56页 |
| §4．10 Sm、Nd掺杂 | 第56-58页 |
| 第五章 掺杂对TbFeCo磁光记录膜性能的影响和机理研究 | 第58-69页 |
| §5．1 磁光Keer角的一般表达式 | 第58-61页 |
| §5．2 自旋-轨道耦合对磁光Kerr效应的影响 | 第61-62页 |
| §5．3 RKKY理论 | 第62-63页 |
| §5．4 稀土掺杂对TbFeCo磁光记录膜磁光Kerr效应的影 | 第63-69页 |
| 结论 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 附录 | 第76-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及科研成果 | 第77页 |
